Twój Profil
Kliknij, aby zalogować »
Jesteś odbiorcą prenumeraty plus
w wersji papierowej?

Oferujemy Ci dostęp do archiwalnych zeszytów prenumerowanych czasopism w wersji elektronicznej
AKTYWACJA DOSTĘPU! »

Twój koszyk

Twój koszyk jest pusty

Czasowy dostęp?

To proste!

zobacz szczegóły

r e k l a m a

ZAMÓW EZEMPLARZ PAPIEROWY!

zobacz szczegóły

Wyniki wyszukiwania

Wyniki 1-2 spośród 2 dla zapytania: authorDesc:"JÓZEF KUDZIA"

» Niereaktywny impulsowy proces rozpylania magnetronowego

WITOLD M. POSADOWSKI

ARTUR WIATROWSKI

JÓZEF KUDZIA

Metoda magnetronowego impulsowego rozpylania jest stosowana zwłaszcza do otrzymywania warstw dielektrycznych podczas rozpylania targetów metalicznych w obecności gazu reaktywnego. Metoda ta rozwiązała również problemy związane z niestabilnościami, występującymi podczas nanoszeniem warstw metalicznych z bardzo dużą wydajnością (duża gęstość mocy wydzielanej w targecie). Stosowanie bardzo duż[...] więcej»
w zeszycie ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA 2007/10

KUP TERAZ » KUP TERAZ (SMS) »

» Magnetronowe rozpylanie – technika i technologia

Witold M. Posadowski

Artur Wiatrowski

Katarzyna Tadaszak

Józef Kudzia

Cienkie warstwy materiałów jednoskładnikowych, stopów i związków chemicznych mogą być otrzymywane metodą rozpylania magnetronowego. Na podłożach o różnych kształtach i rozmiarach, możliwe jest osadzanie warstw przewodzących, półprzewodnikowych i dielektrycznych. Nanowymiarowe struktury cienkowarstwowe jedno- i wieloskładnikowe mogą być wykonywane w postaci wielowarstw, kompozytów, cermetów, mieszanin itp. Atrakcyjność metody magnetronowego rozpylania wynika z możliwości równomiernego, wysokowydajnego osadzania warstw na różnego kształtu powierzchniach, co pozwala spełniać wymagania procesów przemysłowych. W Zakładzie Technologii Próżniowych i Plazmowych, Wydziału Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Politechniki Wrocławskiej prowadzone są badania niekonwencjonalnych procesów magnetronowego rozpylania. Obejmują one opracowywanie i wykonywanie prototypów nowych źródeł magnetronowych oraz badania procesów technologicznych realizowanych za pomocą tych urządzeń. W badaniach są wykorzystywane wyrzutnie magnetronowe typu WM (WMK - kołowa, WMP - prostokątna, WMC - cylindryczna), których konstrukcja jest opracowywana pod kątem realizowania oryginalnych technologii nanoszenia cienkich warstw, ze szczególnym uwzględnieniem procesów autorozpylania i impulsowego reaktywnego osadzania cienkich warstw. Układy magnetronowe typu WM Koncepcja budowy magnetronów WM uwzględnia możliwość stosowania tych urządzeń w wysokowydajnych, powtarzalnych procesach technologicznych. Układ magnetyczny magnetronów zapewnia prawidłowe działanie przy stosunkowo niskich ciśnieniach pracy z jednoczesnym efektywnym wykorzystaniem materiału rozpylanego. Wybrane parametry rodziny magnetronów typu WM przedstawiono w tabeli oraz na rys. 1. Układy WM cechuje możliwość pracy przy mocach targetu (znacznie większych) oraz ciśnieniach roboczych (znacznie niższych) odbiegających od wartości stosowanych w standardowych układach magnetronowych. Jest to możliwe dzięki efek[...] więcej»
w zeszycie ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA 2012/2

KUP TERAZ » KUP TERAZ (SMS) »

Strona 1

r e k l a m a