profil Twój Profil
Kliknij, aby zalogować »
Jesteś odbiorcą prenumeraty plus
w wersji papierowej?

Oferujemy Ci dostęp do archiwalnych zeszytów prenumerowanych czasopism w wersji elektronicznej
AKTYWACJA DOSTĘPU! »

Twój koszyk
  Twój koszyk jest pusty

Czasowy dostęp?

zegar

To proste!

zobacz szczegóły
r e k l a m a
FAIL (the browser should render some flash content, not this).

ZAMÓW EZEMPLARZ PAPIEROWY!

baza zobacz szczegóły

Wyniki wyszukiwania

Wyniki 1-2 spośród 2 dla zapytania: authorDesc:"Fadei F. KOMAROV"

» Super-hard covering formation on metals by ion-beam assisted deposition: modeling

Fadei F. KOMAROV  Aleksander F. KOMAROV  Andrey M. MIRONOV  Paweł ZHUKOWSKI  Czesław KARWAT  Kokstantin N. ARYUTKIN  
Theoretical model of the process of the ion-assisted deposition of titanium layers on the metal substrate is developed. The model allows us to make a choice of the optimal ion beam energy, the ion current density, and the rate of layer deposition in order to improve the tribological and mechanical properties of the system film/metal. Results of the modeling are compared with experimental data. Streszczenie. W pracy przedstawiono model teoretyczny procesu dynamicznego mieszania jonowego warstw tytanu na podłoża metaliczne. Model umożliwia określenie optymalnych wartości energii jonów, gęstości prądu jonowego i szybkości osadzania warstwy w celu poprawy właściwości trybologicznych i mechanicznych układu warstwa-podłoże. Wyniki symulacji porównano z danymi doświadczalnymi. (Model teoretyczny procesu dynamicznego mieszania jonowego warstw tytanu na podłoża metaliczne) Keywords: ion-beam assisted deposition, super-hard layers, TiNx. Słowa kluczowe: dynamiczne mieszanie jonowe, warstwy utwardzone, TiNx. Introduction The method of ion-plasma deposition with a simultaneous ion implantation is one of the promising methods for the formation of wear-resistant thin-film coatings [1]. The results of recent experiments demonstrate that the structure, tribological and mechanical properties of films formed during ion deposition depend upon the characteristics of the accompanying ion irradiation (the ion beam density, its energy, the accumulated fluence). For stoichiometric fluences the formation of impurity distribution profiles is determined not only by the kinetics of atomic collisions but also by the processes connected with the accumulation of impurity in the target, sputtering of the target surface, impurity diffusion, atomic mixing, formation of new phases in the course of implantation, and irradiation-induced swelling. The problems connected with the synthesis of nitride phases like TiNx are timely. In particular, in this work we present a[...] więcej»
w zeszycie PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY 2010/7


 

» Model przewodności skokowej i jego weryfikacja dla nanostruktur wytwarzanych technikami jonowymi

Paweł ŻUKOWSKI  Tomasz KOŁTUNOWICZ  Janusz PARTYKA  Paweł WĘGIEREK  Mariusz KOLASIK  Andrej V. LARKIN  Julia A. FEDOTOVA  Alexander K. FEDOTOV  Fadei F. KOMAROV  Ludmila A. VLASUKOVA  
W pracy przedstawiono model przewodności skokowego przenoszenia ładunków, zlokalizowanych w studniach potencjału, w przypadku przemiennego pola elektrycznego. Abstract: The paper presents a conductivity model of a hopping transfer of charges located in potential wells in the case of an alternating current field. (A model of hopping recharging and its verification for nanostructures formed by th[...] więcej»
w zeszycie PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY 2008/3


 

 Strona 1 
r e k l a m a
FAIL (the browser should render some flash content, not this).