Twój Profil
Kliknij, aby zalogować »
Jesteś odbiorcą prenumeraty plus
w wersji papierowej?

Oferujemy Ci dostęp do archiwalnych zeszytów prenumerowanych czasopism w wersji elektronicznej
AKTYWACJA DOSTĘPU! »

Twój koszyk

Twój koszyk jest pusty

Czasowy dostęp?

To proste!

zobacz szczegóły

r e k l a m a

ZAMÓW EZEMPLARZ PAPIEROWY!

zobacz szczegóły

Wyniki wyszukiwania

Wyniki 1-2 spośród 2 dla zapytania: authorDesc:"YEVHEN ZABILA"

» Interferencyjna litografia laserowa

YEVHEN ZABILA

MARCIN PERZANOWSKI

KONSTANTY MARSZAŁEK

MARTA MARSZAŁEK

Praca przedstawia nową technikę litografii zwaną bezpośrednią interferencyjną litografią laserową, która umożliwia wytwarzanie na powierzchni cienkich warstw periodycznych nanostruktur z rozdzielczością rzędu kilkuset nm.Wostatnich latach możliwość tworzenia uporządkowanych periodycznych matryc nanostruktur stała się niezwykle interesująca z punktu widzenia różnorodnych zastosowań w nanotechnologii urządzeń optycznych, sensorów i magnetycznych nośników informacji. Szczególnie w dziedzinie zapisu informacji na nośnikach magnetycznych dalsze zwiększanie gęstości zapisu wymaga użycia do zapisu jednego bitu informacji izolowanej nanocząstki [1] o jednoosiowej anizotropii magnetycznej i powiązania wartości bitu z kierunkiem namagnesowania remanencji [2,3]. W celu utworzenia uporząd[...] więcej»
w zeszycie ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA 2009/9

KUP TERAZ » KUP TERAZ (SMS) »

» Mikrostrukturyzacja powierzchni Si przy pomocy laserowej litografii interferencyjnej

MACIEJ LORENS

W ostatnich latach periodyczne nanostruktury są intensywnie badane ze względu na ich możliwe zastosowania w różnych dziedzinach takich jak medycyna, przemysł tekstylny, spożywczy i produkcja magnetycznych nośników informacji. W szczególności, w tej ostatniej dziedzinie dalszy wzrost gęstości zapisu informacji na nośnikach magnetycznych, wobec perspektywy utraty stabilności zapisu spowodowanej osiągnięciem granicy superparamagnetycznej, zależy od zastosowania nanomateriałów. Ostatnie badania pokazały [1, 2], że litografia interferencyjna jest szybką i ekonomiczną metodą mogącą służyć do wytworzenia periodycznych macierzy mikrostruktur o periodzie rzędu kilkuset nanometrów [3]. Obraz interferencyjny uzyskany poprzez interferencję dwóch, trzech lub czterech wiązek pochodzących z lasera impulsowego wysokiej mocy pozwala na bezpośrednie, periodyczne ogrzanie powierzchni metalicznej, prowadzące do powstania mikrostruktur. W wyniku oddziaływania światła z materiałem warstwy i spowodowanych nim zmian materiału (np. przemiany fazowej lub zmiany struktury krystalograficznej) powstanie wzór będący negatywem obrazu interferencyjnego. Metoda ta pozwala na tworzenie na powierzchniach metalicznych periodycznych wzorów obejmujących duże obszary. Proces wytwarzania żądanych struktur jest jednostopniowy - składa się tylko z trwającego kilkanaście nanosekund impulsu lasera, po którym otrzymuje się gotową str[...] więcej»
w zeszycie ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA 2011/8

KUP TERAZ » KUP TERAZ (SMS) »

Strona 1

r e k l a m a