Twój Profil
Kliknij, aby zalogować »
Jesteś odbiorcą prenumeraty plus
w wersji papierowej?

Oferujemy Ci dostęp do archiwalnych zeszytów prenumerowanych czasopism w wersji elektronicznej
AKTYWACJA DOSTĘPU! »

Twój koszyk

Twój koszyk jest pusty

Czasowy dostęp?

To proste!

zobacz szczegóły

r e k l a m a

ZAMÓW EZEMPLARZ PAPIEROWY!

zobacz szczegóły

Wyniki wyszukiwania

Wyniki 1-2 spośród 2 dla zapytania: authorDesc:"KRZYSZTOF ZDUNEK"

» Materiałowe skutki zastosowania zaworu impulsowego w urządzeniu IPD

KRZYSZTOF ZDUNEK

KATARZYNA NOWAKOWSKA-LANGIER

RAFAŁ CHODUN

JERZY DORA

W metodzie IPD [1] wykorzystuje się plazmę impulsową generowaną w akceleratorze koaksjalnym, zbudowanym z dwóch elektrod: wewnętrznej - pręta oraz zewnętrznej - tulei. Źródłem energii elektrycznej jest włączona w szereg z akceleratorem bateria kondensatorów o pojemności ok. 100...200 µF naładowana do napięcia kilku kV. W przypadku standardowego rozwiązaniu układu zasilania akceleratora, kluczowanie rozładowaniem kondensatorów następuje z wykorzystaniem ignitronu iskrowego. W urządzeniu IPD kluczowanym ignitronem gaz plazmotwórczy podawany jest do akceleratora plazmy w sposób ciągły przy zachowaniu ciśnienia w komorze osadzania warstw rzędu 10 Pa (np. 20...50 Pa). Powłoka powstaje w wyniku kondensacji na powierzchni podłoża kolejnych porcji składników plazmy. Cechą szczeg[...] więcej»
w zeszycie ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA 2009/9

KUP TERAZ » KUP TERAZ (SMS) »

» Wpływ parametrów pracy magnetronu na warunki nanoszenia cienkich warstw podczas procesu rozpylania

Witold M. Posadowski

Parametrami procesu magnetronowego rozpylania mogą być miedzy innymi temperatura i polaryzacja napylanego podłoża (prąd jonowy płynący do podłoża), które są parametrami technologicznymi procesu nanoszenia. Ustalając ich wartość, można w kontrolowany sposób wpływać na warunki kondensacji cienkich warstw na podłożach. Znajduje to odzwierciedlenie na modelu budowy cienkich warstw otrzymywanych metodą rozpylania, zaproponowanego przez Thorntona [1] i modyfikowanego przez Musila [2]. Budowa osadzanych warstw wynika z relacji miedzy temperaturą podłoża i temperaturą topnienia nanoszonego materiału oraz ciśnienia procesu, które określa energie osadzanych cząstek. Oba wymienione parametry są ze sobą ściśle związane i powinny być kontrolowane. Niestety tak nie jest, ponieważ obok grzania intencjonalnego podłoży pojawia się ich dodatkowe dogrzewanie powodowane energią cząstek kondensujących na podłożu. Temperatura ta może być ~100…150oC większa niż mierzona. Określenie wartości tej temperatury jest niejednoznaczne. Autorzy [3] podkreślają, że należałoby uwzględnić raczej trzy parametry, a mianowicie temperaturę podłoża Tp, temperaturę warstwy Tw i temperaturę powierzchni warstwy Tpw. Temperatura układu podłoże-warstwa narasta w miarę zbliżania się do powierzchni nanoszonej warstwy. Powodem istnienia gradientu temperatury jest egzotermiczne uwalnianie ciepła podczas przemiany par materiału w ciało stałe. Ponadto źródłem ciepła dostarczanego do napylanego podłoża są: jony i neutrale bombardujące podłoże z osadzaną warstwą oraz promieniowanie z targetu, które mimo jego chłodzenia jest znaczącym elementem w transferze ciepła do podłoża. W przypadku procesów reaktywnych dodatkowo należy uwzględniać ciepło reakcji, podczas której tworzone są związki chemiczne na podłożu. Ef[...] więcej»
w zeszycie ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA 2011/11

KUP TERAZ » KUP TERAZ (SMS) »

Strona 1

r e k l a m a