profil Twój Profil
Kliknij, aby zalogować »
Jesteś odbiorcą prenumeraty plus
w wersji papierowej?

Oferujemy Ci dostęp do archiwalnych zeszytów prenumerowanych czasopism w wersji elektronicznej
AKTYWACJA DOSTĘPU! »

Twój koszyk
  Twój koszyk jest pusty

Czasowy dostęp?

zegar

To proste!

zobacz szczegóły
r e k l a m a
FAIL (the browser should render some flash content, not this).

ZAMÓW EZEMPLARZ PAPIEROWY!

baza zobacz szczegóły

Wyniki wyszukiwania

Wyniki 1-4 spośród 4 dla zapytania: authorDesc:"JERZY DORA"

» Ceramic-metal composite nitriding at atmospheric pressure by non-isothermal plasma

ANDRZEJ R.OLSZYNA  ALEKSANDRA SOKOŁOWSKA  BARBARA KUŁAKOWSKA-PAWLAK  JERZY DORA  
Al2O3/Cr composite ceramic was ion-nitrided in N2 under atmospheric pressure. The plasma was generated by two different systems: an a.c. high voltage corona discharge, and an a.c. high voltage concentric dielectric barrier discharge. An analysis of the plasma light emission revealed the presence of N2 + ions (up to 50%) and confirmed the nonisothermal state of the plasma. The treated surface[...] więcej»
w zeszycie INŻYNIERIA MATERIAŁOWA 2007/3-4


 

» Materiałowe skutki zastosowania zaworu impulsowego w urządzeniu IPD

KRZYSZTOF ZDUNEK  KATARZYNA NOWAKOWSKA-LANGIER  RAFAŁ CHODUN  JERZY DORA  
W metodzie IPD [1] wykorzystuje się plazmę impulsową generowaną w akceleratorze koaksjalnym, zbudowanym z dwóch elektrod: wewnętrznej - pręta oraz zewnętrznej - tulei. Źródłem energii elektrycznej jest włączona w szereg z akceleratorem bateria kondensatorów o pojemności ok. 100...200 µF naładowana do napięcia kilku kV. W przypadku standardowego rozwiązaniu układu zasilania akceleratora, kluczowanie rozładowaniem kondensatorów następuje z wykorzystaniem ignitronu iskrowego. W urządzeniu IPD kluczowanym ignitronem gaz plazmotwórczy podawany jest do akceleratora plazmy w sposób ciągły przy zachowaniu ciśnienia w komorze osadzania warstw rzędu 10 Pa (np. 20...50 Pa). Powłoka powstaje w wyniku kondensacji na powierzchni podłoża kolejnych porcji składników plazmy. Cechą szczeg[...] więcej»
w zeszycie ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA 2009/9


 

» System zasilania głowic atomizacyjnych do wytwarzania elektro-aerozoli

Jerzy DORA  Ryszard KACPRZYK  Anna KISIEL  Paweł ŻYŁKA  
W pracy przedstawiono problematykę wysokonapięciowego zasilania układu do elektryzacji indukcyjnej cząstek aerozoli wytwarzanych w głowicach z naddźwiękowym rozpraszaniem pneumatycznym w dyszy de Lavala. Do zasilania elektrod indukcyjnych głowic zastosowano indywidualne zasilacze wysokiego napięcia stałego małej mocy, pracujące w układzie rezonansowych przetwornic dc-dc. Zasilacze zamontowano na belce prototypowego, elektro-aerozolowego opryskiwacza agrotechnicznego bezpośrednio przy głowicach w celu ograniczenia do minimum połączeń w obwodzie WN. System zasilania wysokonapięciowego wyposażono w zdalny układ sterujący oraz opto-akustyczny sygnalizator stanu systemu wielogłowicowego. W pracy przedstawiono właściwości typowego zasilacza małej mocy oraz zwrócono uwagę na problematykę zagrożeń porażeniowych, jakie mogą wystąpić w warunkach awaryjnych. Oszacowano energię gromadzoną w układzie powielacza wysokiego napięcia, która może być rozproszona w warunkach niekontrolowanego rozładowania lub zwarcia, np. przez ciało człowieka. Abstract. The paper discuses problems related to HV supply system for induction charging of aerosol droplets generated in supersonic pneumatic atomizing heads fitted with de Laval nozzle. Individual low power DC HV supply units, configured as resonant DC-DC converters, are applied for induction electrode charging. Supply units are installed on a drag-bar of prototype electro-aerosol agricultural spraying machine directly next to atomizing heads in order to minimize HV wiring length. The HV supply system is fitted with remote unit and opto-acoustic indicator for multi-head system state control. Operational characteristics of a standard HV low-power supply unit are presented and attention is drawn to problems related to electric shock hazards, which may arise in case of HV supply failure. Energy accumulated in HV multiplier subsystem, which may be discharged in case of any uncontrolled shorting (e.g. involving human body),[...] więcej»
w zeszycie PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY 2010/6


 

» Próżniowe otrzymywanie cienkich warstw na wielkogabarytowych, szklanych podłożach. Część 2 - linia przesyłowa

Jarosław Halarewicz  Piotr Domanowski  Jerzy Dora  Andrzej Wawrzak  Kazimierz Karwowski  Piotr Pinio  Artur Wiatrowski  Witold Michał Posadowski  
Przemysłowe linie osadzania powłok cienkowarstwowych można podzielić, ze względu na sposób pracy, na systemy tzw. in-line i off-line. Odpowiednikiem w języku polskim są odpowiednio, potokowe i wsadowe systemy nanoszenia cienkich warstw. Różnica między nimi polega na sposobie realizacji cyklu próżniowego. W wypadku systemu potokowego (in-line) podłoża są pokrywane powłokami w sposób ciągły i przemieszczają się przez kolejne komory urządzenia przy "otwartym" wejściu i wyjściu linii. Warunki próżniowe są osiągane w wyniku pompowania kolejnych komór oraz śluz między nimi (tzw. komór buforowych). Dzięki odpowiednim rozwiązaniom konstrukcyjnym są zapewnione wymagane warunki procesów osadzania warstw przy dynamiczne "otwartym" systemie próżniowym. Kolejne partie, przesuwających się wzdłuż linii, podłoży są pokrywane w sposób ciągły powłokami cienkowarstwowymi i cykl produkcyjny zamyka się w jednym cyklu próżniowym. W wypadku systemu wsadowego (off-line), po załadowaniu do komory roboczej określonej liczby podłoży, następuje proces pompowania, procesy obróbki wstępnej podłoży, właściwy proces pokrywania warstwami, a następnie komora robocza jest zapowietrzana. Po zakończeniu cyklu próżniowego, podłoża są wyładowywane z komory, ich miejsce zajmuje następna partia podłoży i jest realizowany kolejny cykl próżniowy. Zatem na cykl produkcyjny składają się kolejne cykle próżniowe. Wybór systemu do nanoszenia cienkich warstw zależy od stawionych wymagań. Linie potokowe składają się z kilku (kilkunastu) komór roboczych, a ich długość jest rzędu kilkudziesięciu metrów. Działanie systemu wsadowego zakłada prowadzenie procesu otrzymywania warstw w jednej komorze roboczej. W systemie potokowym istnieje możliwość pokrywania wielu podłoży, ale w praktyce tylko płaskich. Mogą również wystąpić ograniczenia przy stosowaniu bardziej specjalistycznych technologii. W systemie wsadowym stwarza się różnorodne możliwości technologiczne oraz zapewnia nanos[...] więcej»
w zeszycie ELEKTRONIKA - KONSTRUKCJE, TECHNOLOGIE, ZASTOSOWANIA 2012/4


 

 Strona 1 
r e k l a m a
FAIL (the browser should render some flash content, not this).