Wyniki 1-10 spośród 13 dla zapytania: authorDesc:"Jan Ziaja"

ZnO thin film deposition with pulsed magnetron sputtering

Czytaj za darmo! »

In this work, the pulse magnetron sputtering was applied to Zn-Bi-O thin films deposition. It was proved that the rate of metal target sputtering with argon model plasma was highest when using DC-M bias, while reactive sputtering of metal or oxide targets was most effective in the case of AC-M mode of biasing. The rates of material depositions were comparable or higher than those achievable with[...]

Badania wpływu temperatury i wilgotności na rezystywność powierzchniową materiałów kompozytowych ekranujących pole elektromagnetyczne

Czytaj za darmo! »

W pracy przedstawiono wyniki badań wpływu temperatury i wilgotności na rezystywność powierzchniową kompozytów złożonych z włókniny polipropylenowej, z naniesionymi warstwami metalicznymi otrzymanymi metodą impulsowego rozpylania magnetronowego targetów cynkowo-indowych (80%Zn-20%In) oraz tytanowych. Kompozyty starzono w temperaturach 23 i 40 .C, a wilgotność względną otaczającego powietrza zmieniano od 20 % do 90 %. Badania wykazały silny wpływ temperatury i wilgotności. Stwierdzono również małą odporność starzeniową warstw cynkowo-indowych. Abstract. Authors describe research over influence of temperature and humidity on the surface resistivity of composites made of polypropylene nonwoven fabric coated with pulls magnetron sputtering method with targets made of zinc-indium (80%Zn-20%In) and titanium. These materials were aged in two temperatures 23 .C and 40 .C, and relative humidity of surrounding air was changed from 20 % to 90 %. It was found also that temperature has significant influence on the value of surface resistivity of composite material with 80%Zn-20%In layer. Research revealed low ageing resistance of zinc-indium layer.(Research over influence of temperature and humidity on to surface resistivity of composites fabrics for electromagnetic shields). Słowa kluczowe: materiał barierowy, ekranowanie pola elektromagnetycznego, rozpylanie magnetronowe, badanie starzeniowe, rezystywność powierzchniowa. Keywords: barrier material, electromagnetic field shielding, magnetron sputtering, ageing research, surface resistivity.W ostatnich dziesięcioleciach obserwuje się znaczny wzrost liczby źródeł promieniowania fal elektromagnetycznych. Dotyczy to nie tylko stacji przekaźnikowych telefonii komórkowej i systemów radiotelewizyjnych, ale i urządzeń mikrofalowych wykorzystywanych w przemyśle (zgrzewarki, suszarki, nagrzewnice mikrofalowe). Urządzenia generujące fale elektromagnetyczne znajdują zastosowanie również w diagnostyce medycznej[...]

Optical emission spectra of Zn and Bi in pulsed magnetron plasma

Czytaj za darmo! »

This study aimed at determining the relations between technological parameters of sputtering process - power discharge, the targetsubstrate distance, working gas pressure and the chemical composition of pulsed magnetron plasma by means of optical spectrophotometry. Planar 0.90Zn-0.10Bi target was sputtered in Ar, O2 and in the atmosphere of the both gases mixture. Optical emission spectra were measured in 200- 800 nm wavelength range. Streszczenie. Za pomocą spektroskopii optycznej określono korelacje pomiędzy parametrami procesu rozpylania - moc wyładowania, odległość target-podłoże, ciśnienie gazu, a składem chemicznym plazmy magnetronowego wyładowania jarzeniowego. W badaniach zastosowano stop 0,90Zn-0,10Bi. Target rozpylano w atmosferze argonu (Ar), tlenu (O2) oraz mieszaninie obu tych gazów. Widma emisyjne rejestrowano w zakresie długości fal od 200-800 nm. (Spektroskopia emisyjna plazmy zasilanej impulsowo w trakcie magnetronowego rozpylania stopu Zn-Bi). Keywords: magnetron sputtering, optical spectroscopy, emission lines, pulsed plasma. Słowa kluczowe: rozpylanie magnetronowe, spektroskopia optyczna, linie emisyjne, plazma zasilana impulsowo. Introduction A current development of microelectronics and optoelectronics forced the search for new materials with strictly defined electrical and optical properties. Recently, one of the most explored materials has been thin film of zinc oxide (ZnO). It has been extensively studied because of its present and potential application in various areas [1- 8]. Other works also show structural and optoelectrical characteristic of ZnO that can be modified by doping with other elements [9-12]. In the last year investigations on doping with Bi started [13]. There are varieties of methods in preparing thin films as zinc oxide [14-19]. One of the most commonly applied methods is magnetron sputtering [20, 21]. ZnO thin layer can be obtained by sputtering a metallic target in the reactive (O2) atm[...]

Zastosowanie cienkich warstw otrzymanych metodą impulsowego rozpylania magnetronowego w ekranowaniu pól elektromagnetycznych

Czytaj za darmo! »

Cienkowarstwowe ekrany elektromagnetyczne otrzymano przez rozpylanie metalicznego targetu Ni-Fe oraz Al w procesie impulsowego rozpylania magnetronowego. Powłoki naniesiono na papier kablowy w atmosferze czystego argonu. Stosowano różny czas trwania procesu. Zbadano wpływ grubości i kolejności powłok na rezystywność powierzchniową warstw oraz skuteczność ekranowania pola elektromagnetycznego. Najwyższa uzyskana wartość ekranowania wyniosła 25 dB. Abstract. Electromagnetic thin shields were prepared by deposition of metallic Ni-Fe and Al targets via impulse magnetron sputtering. Thin films sputtered onto cable papers in argon atmosphere. Metallization was carried out, at different sputtering times. The influence of layer’s thicknesses and their sequence on surface resistivity and shielding effectiveness was observed. The highest value of attenuation received 25 dB (Application of thin films prepared by impulse magnetron sputtering for shielding of electromagnetic fields ). Słowa kluczowe: pole elektromagnetyczne, skuteczność ekranowania, rozpylanie magnetronowe, cienkie warstwy. Keywords: electromagnetic field, shielding effectiveness, magnetron sputtering, thin films. Wstęp Rozwój gospodarczy obserwowany w ostatnim wieku spowodował znaczny wzrost liczby urządzeń emitujących promieniowanie elektromagnetyczne (PEM). Źródłem szkodliwych fal są już nie tylko procesy zachodzące na ziemi (wyładowania atmosferyczne), bądź w kosmosie (promieniowanie wynikające z aktywności ciał niebieskich), a w głównej mierze systemy radarowe, telewizyjne, radiowe, jak i urządzenia powszechnego użytku (kuchenki mikrofalowe, telewizory, grzejniki indukcyjne, telefony komórkowe itp.) [1, 2]. Pola o zmiennej częstotliwości generowane są także w wyniku przepięć powstających w urządzeniach technicznych oraz w sieci elektrycznej. Promieniowanie to ma bezpośredni wpływ na organizm człowieka. Już pola elektryczne o natężeniu rzędu 500 V/m i gęstości mocy ok[...]

The influence of technological parameters on photovoltaic properties of TiO2

Czytaj za darmo! »

The aim of the study was to obtain structures of TiO2 thin films with photovoltaic properties. The layers were produced by magnetron sputtering. The influence of basic process parameters (power, frequency and duration of sputtering) on the of photovoltaic properties was investigated. The results obtained showed that the power of magnetron sputtering and annealing temperature of samples is crucial for the proper formation of the crystalline structure and photovoltaic activity of titanium oxide films. Streszczenie. Celem pracy było otrzymanie cienkowarstwowych struktur TiO2 o właściwościach fotowoltaicznych. Warstwy wytwarzane były metodą rozpylania magnetronowego. Wyniki badań wykazały, że moc rozpylania oraz temperatura wygrzewania próbek ma decydujący wpływ na powstanie odpowiedniej struktury krystalicznej i aktywność fotowoltaiczną warstw tlenku tytanu. (Wpływ parametrów procesu technologicznego na właściwości fotowoltaiczne warstw TiO2). Keywords: titanianum dioxide, photovoltaics, magnetron sputtering. Słowa kluczowe: dwutlenek tytanu, fotowoltaika, rozpylanie magnetronowe. Introduction Production of electricity from renewable energy sources causes increasing interest in the world. This is due to many factors. One of the most important is the elimination of harmful effects on the environment, e.g. excessive noise and pollution. Renewable energy does not increase greenhouse gas concentrations in the atmosphere and the same does not introduce alarming climate change. An important advantage of renewable energy sources is the fact, that in contrast to the conventional sources, they are available around the world, although not everywhere in the same extent. Nowadays predominant source of energy is still oil (it makes 40 percent of total energy consumption), next coal (27%), methane (23%) and nuclear energy (7%). Alternative sources of energy currently represent only about 3% of total energy consumption, but the future is to be a si[...]

Fotowoltaiczne właściwości cienkich warstw Zn-In-O

Czytaj za darmo! »

Celem pracy było wytworzenie i zbadanie fotowoltaicznych właściwości cienkich warstw tlenku cynku z indem. Do otrzymania warstw Zn-In-O zastosowano technikę rozpylania magnetronowego. Właściwości fotowoltaiczne uzyskanych warstw określano przez pomiar wartości natężenia prądu w zależności od długości fali i wyznaczenie charakterystyk prądowo-napięciowych. Wartość fotoprądu ulegała zmianie w zależności od długości fali świetlnej. Wielkość tych zmian zależała od wartości częstotliwości zastosowanej podczas nanoszenia warstw ZnInO. Abstract. The aim of the study was to manufacture and investigation of photovoltaic properties of Zn-In-O thin films obtained by magnetron sputtering method. Photovoltaic properties were tested by measurement of photocurrent intensity as a function of wavelength and determination of current-voltage characteristics. The results obtained indicate that photocurrent value varied with wavelength change. These changes depended on the impulse group frequency value applied during formation of layers (Photovoltaic properties of Zn-In-O thin films). Słowa kluczowe: rozpylanie magnetronowe, fotowoltaika, fotoprąd, cienka warstwa. Keywords: magnetron sputtering, photovoltaics, photocurrent, thin film.Wzrost cen paliw konwencjonalnych, spowodowany zmniejszającym się zasobem kopalnianych surowców naturalnych, oraz troska o ochronę środowiska spowodowały szczególne zainteresowanie źródłami odnawialnymi. Ogniwa fotowoltaiczne są jednym z alternatywnych źródeł energii elektrycznej [1], jednak technologia ich otrzymywania jest jeszcze stosunkowo droga, dlatego poszukiwane są nowe sposoby wytwarzania materiałów o właściwościach fotowoltaicznych [2, 3]. Ze względu na niewielkie zużycie materiału oraz niższe koszty produkcji ogniwa cienkowarstwowe cieszą się cor[...]

Włókniny polipropylenowe z węglowym pokryciem plazmowym w technice ekranowania pola EM

Czytaj za darmo! »

W pracy podjęto próbę wykorzystania metody niskotemperaturowej plazmy wyładowań jarzeniowych do wytwarzania przewodzących pokryć węglowych na włókninach polipropylenowych do zastosowania w technice ekranowania pola elektromagnetycznego. Warstwy uzyskiwano z fazy gazowej (propan - butan). Otrzymanie warstw przewodzących wymaga dalszych badań. Abstract. This work attempted to try to use method of[...]

Właściwości dielektryczne warstw węglowych na włókninie polipropylenowej

Czytaj za darmo! »

W pracy opisano otrzymywanie cienkich warstw węglowych metodą impulsowego rozpylania magnetronowego oraz polimeryzacji plazmowej. Układy zasilano prądem zmiennym jednokierunkowym DC-M o częstotliwości 160 kHz i prądem przemiennym AC-M o częstotliwości 80 kHz. Przedstawiono wyniki badania rezystywności powierzchniowej w zależności od wybranych parametrów procesu rozpylania magnetronowego. Abstract. In the paper thin carbon layers production methods by the pulse magnetron sputtering and plasma spraying were described. The systems were supplied by one direction alternating current with 160 kHz frequency in first method and alternating current with 80 kHz frequency in second one. Results of surface resistivity in dependence on selected parameters of magnetron spraying process were presented. (Dielectric properties of carbon films on the polypropylene nonwoven fabric) Słowa kluczowe: pole elektromagnetyczne, skuteczność ekranowania, rozpylanie magnetronowe, cienkie warstwy. Keywords: electromagnetic field, shielding effectiveness, magnetron sputtering, thin films. Wstęp Węgiel jest pierwiastkiem przejściowym należącym do IV grupy układu okresowego występującym w wielu odmianach alotropowych. Do najważniejszych zalicza się diament, fulereny, nanorurki, włókna węglowe, węgiel czarny, grafit oraz węgiel amorficzny. Wszystkie te odmiany znajdują szerokie zastosowanie w przemyśle. Warstwy węglowe zawierające dużą ilość fazy diamentowej znalazły zastosowanie w medycynie jako bariery oddzielające implanty od żywego organizmu [1, 2, 3]. Układy wielowarstwowe węgiel/polimer o wymiarach porów nieprzenikliwych dla bakterii i wirusów, mogą być używane do produkcji filtrów [4, 5]. Powłoki ekranujące wykonane przy wykorzystaniu techniki plazmowych: polimeryzacji w plazmie lub rozpylania magnetronowego są alternatywą dla ciężkich i sztywnych ekranów PEM wykonanych z metalowych blach i siatek. Właściwości fizyko-chemiczne cienkich warstw umożliwiają [...]

 Strona 1  Następna strona »