Wyniki 1-2 spośród 2 dla zapytania: authorDesc:"Jacek Rogala"

Właściwości optyczne cienkich warstw na bazie mieszanin tlenków tytanu i wolframu (TiO2-WO3) DOI:10.15199/13.2018.7.1


  Cienkie warstwy na bazie mieszanin tlenków tytanu i wolframu (TiO2-WO3) stanowią nowatorskie rozwiązanie technologiczne, pozwalające na optymalne wykorzystanie właściwości charakterystycznych dla powłok na bazie dwutlenku tytanu (TiO2) i trójtlenku wolframu (WO3). Materiały TiO2 oraz WO3 od wielu lat znajdują powszechne zastosowanie w różnorodnych dziedzinach przemysłu, elektroniki, fotoniki i medycyny [1, 4, 14], podczas gdy wytworzenie mieszanin tlenków TiO2-WO3 prowadzi do otrzymania powłok funkcjonalnych o ulepszonych lub zupełnie nowych parametrach użytkowych [11]. Mieszaniny tlenków TiO2-WO3 nie tworzą odrębnych związków chemicznych czy roztworów stałych [13]. Cienkie warstwy TiO2-WO3 mogą cechować się stabilnością strukturalną w podwyższonej temperaturze, większymi wartościami parametrów transmisji światła, przewodności elektrycznej, czy efektywności fotokatalitycznej, selektywnością i czułością w odniesieniu do określonych związków chemicznych oraz wydłużonym czasem życia w zastosowaniach elektrochromowych. Z tego względu znajdują one szeroki zakres zastosowań w wielu dziedzinach optyki, procesach fotokatalitycznych, urządzeniach elektrochromowych, czy sensorach gazu [2, 3, 5, 7, 9, 12, 13]. Właściwości otrzymanych powłok zależą w znacznej mierze od wybranej metody osadzania, a także parametrów procesu technologicznego. Cienkie warstwy TiO2-WO3 wytwarzane są za pomocą zróżnicowanych metod, należących do grup fizycznego osadzania z fazy gazowej (ang. Physical Vapor Deposition, PVD), chemicznego osadzania z fazy gazowej (ang. Chemical Vapor Deposition, CVD) lub osadzania z fazy ciekłej (ang. Liquid Phase Synthesis, LPS) [5, 6, 7, 9, 12]. W ramach pracy, powłoki na bazie mieszanin tlenków TiO2-WO3 osadzono na podłożach z krzemionki amorficznej (SiO2), wykorzystując metodę parowania wiązką elektronową (ang. Electron Beam Evaporation, EBE). W artykule przedstawiono wpływ zmian składu materiałowego mieszanin tlenków TiO2[...]

Wpływ modyfikacji plazmowej na właściwości powierzchni elastycznych podłoży polimerowych przeznaczonych do zastosowania w transparentnej elektronice DOI:10.15199/13.2018.7.2


  Polimery zyskały w ostatnich dziesięcioleciach ogromne znaczenie jako materiały używane w wielu dziedzinach przemysłu, m.in. w branży lotniczej i motoryzacyjnej, a także w elektronice, w której wykorzystywane są jako tanie, lekkie, oraz elastyczne podłoża [1]. Mimo licznych zalet podłoża polimerowe wymagają często wstępnej obróbki, która przygotowałaby ich powierzchnię do adhezji z innym materiałem, oczyściła, odpowiednio wytrawiła, czy zmieniła stopień zwilżalności oraz tarcia. Techniki modyfikacji powierzchni polimerów podzielić można na dwie główne kategorie, tj. metody chemiczne oraz fizyczne. Z metod chemicznych warto wymienić chemisorbcję, utlenianie w silnych kwasach, czy obróbkę płomieniem. Natomiast do metod fizycznych zaliczamy m.in. obróbkę promieniami UV/gamma, wiązką laserową i jonową oraz modyfikację plazmową [2, 3]. Ta ostatnia zyskała szczególną popularność w przemyśle ze względu na łatwość sterowania procesem, jego szybkość oraz stosunkowo nieduży koszt [3, 4]. Obróbka plazmowa może wpływać na swobodną energię powierzchniową (SEP) polimeru, a tym samym zmieniać zwilżalność jego powierzchni. Wzrost stopnia zwilżalności powierzchni ma zasadnicze znaczenie w przygotowaniu jej do adhezji z inną warstwą. Poza tym modyfikacja plazmowa może mieć wpływ na zmianę ukształtowania topografii powierzchni polimeru oraz utratę masy - jest w istocie jego trawieniem [5]. Przedmiot badań Przedmiot badań niniejszej[...]

 Strona 1