Wyniki 1-4 spośród 4 dla zapytania: authorDesc:"Karol Obara"

Właściwości optyczne cienkich warstw na bazie mieszanin tlenków tytanu i wolframu (TiO2-WO3) DOI:10.15199/13.2018.7.1


  Cienkie warstwy na bazie mieszanin tlenków tytanu i wolframu (TiO2-WO3) stanowią nowatorskie rozwiązanie technologiczne, pozwalające na optymalne wykorzystanie właściwości charakterystycznych dla powłok na bazie dwutlenku tytanu (TiO2) i trójtlenku wolframu (WO3). Materiały TiO2 oraz WO3 od wielu lat znajdują powszechne zastosowanie w różnorodnych dziedzinach przemysłu, elektroniki, fotoniki i medycyny [1, 4, 14], podczas gdy wytworzenie mieszanin tlenków TiO2-WO3 prowadzi do otrzymania powłok funkcjonalnych o ulepszonych lub zupełnie nowych parametrach użytkowych [11]. Mieszaniny tlenków TiO2-WO3 nie tworzą odrębnych związków chemicznych czy roztworów stałych [13]. Cienkie warstwy TiO2-WO3 mogą cechować się stabilnością strukturalną w podwyższonej temperaturze, większymi wartościami parametrów transmisji światła, przewodności elektrycznej, czy efektywności fotokatalitycznej, selektywnością i czułością w odniesieniu do określonych związków chemicznych oraz wydłużonym czasem życia w zastosowaniach elektrochromowych. Z tego względu znajdują one szeroki zakres zastosowań w wielu dziedzinach optyki, procesach fotokatalitycznych, urządzeniach elektrochromowych, czy sensorach gazu [2, 3, 5, 7, 9, 12, 13]. Właściwości otrzymanych powłok zależą w znacznej mierze od wybranej metody osadzania, a także parametrów procesu technologicznego. Cienkie warstwy TiO2-WO3 wytwarzane są za pomocą zróżnicowanych metod, należących do grup fizycznego osadzania z fazy gazowej (ang. Physical Vapor Deposition, PVD), chemicznego osadzania z fazy gazowej (ang. Chemical Vapor Deposition, CVD) lub osadzania z fazy ciekłej (ang. Liquid Phase Synthesis, LPS) [5, 6, 7, 9, 12]. W ramach pracy, powłoki na bazie mieszanin tlenków TiO2-WO3 osadzono na podłożach z krzemionki amorficznej (SiO2), wykorzystując metodę parowania wiązką elektronową (ang. Electron Beam Evaporation, EBE). W artykule przedstawiono wpływ zmian składu materiałowego mieszanin tlenków TiO2[...]

Wpływ modyfikacji plazmowej na właściwości powierzchni elastycznych podłoży polimerowych przeznaczonych do zastosowania w transparentnej elektronice DOI:10.15199/13.2018.7.2


  Polimery zyskały w ostatnich dziesięcioleciach ogromne znaczenie jako materiały używane w wielu dziedzinach przemysłu, m.in. w branży lotniczej i motoryzacyjnej, a także w elektronice, w której wykorzystywane są jako tanie, lekkie, oraz elastyczne podłoża [1]. Mimo licznych zalet podłoża polimerowe wymagają często wstępnej obróbki, która przygotowałaby ich powierzchnię do adhezji z innym materiałem, oczyściła, odpowiednio wytrawiła, czy zmieniła stopień zwilżalności oraz tarcia. Techniki modyfikacji powierzchni polimerów podzielić można na dwie główne kategorie, tj. metody chemiczne oraz fizyczne. Z metod chemicznych warto wymienić chemisorbcję, utlenianie w silnych kwasach, czy obróbkę płomieniem. Natomiast do metod fizycznych zaliczamy m.in. obróbkę promieniami UV/gamma, wiązką laserową i jonową oraz modyfikację plazmową [2, 3]. Ta ostatnia zyskała szczególną popularność w przemyśle ze względu na łatwość sterowania procesem, jego szybkość oraz stosunkowo nieduży koszt [3, 4]. Obróbka plazmowa może wpływać na swobodną energię powierzchniową (SEP) polimeru, a tym samym zmieniać zwilżalność jego powierzchni. Wzrost stopnia zwilżalności powierzchni ma zasadnicze znaczenie w przygotowaniu jej do adhezji z inną warstwą. Poza tym modyfikacja plazmowa może mieć wpływ na zmianę ukształtowania topografii powierzchni polimeru oraz utratę masy - jest w istocie jego trawieniem [5]. Przedmiot badań Przedmiot badań niniejszej[...]

Wpływ wygrzewania na właściwości powierzchni cienkich warstw na bazie wybranych tlenków metali DOI:10.15199/13.2017.7.2


  Powłoki cienkowarstwowe znajdują powszechne zastosowanie w przemyśle, m.in. elektronicznym, fotonicznym oraz medycznym [1-4]. Dwutlenek tytanu (TiO2) jest materiałem dielektrycznym. Powłoki na bazie TiO2 mogą występować zarówno w postaci amorficznej, jak i polikrystalicznej. TiO2 posiada trzy odmiany krystalograficzne, tj. anataz, rutyl i brukit. Struktury anatazu i rutylu charakteryzują się tetragonalnym układem krystalograficznym, zaś brukitu - układem rombowym [5]. Struktura TiO2 ulega przekształceniu pod wpływem temperatury [2, 5, 6]. Anataz jest odmianą niskotemperaturową, która ulega transformacji w rutyl, uznawany za metastabilną odmianę TiO2, po wygrzewaniu w temperaturze powyżej około 700°C [6]. Brukit, będący niestabilną termicznie odmianą, nie znajduje powszechnego zastosowania w przemyśle i technologii [1]. Trójtlenek wolframu (WO3) jest również materiałem dielektrycznym, który posiada zbliżone właściwości i znajduje bardzo podobne zastosowania jak wcześniej przedstawiony TiO2. Cienkie warstwy na bazie WO3 mogą występować w postaci amorficznej lub polikrystalicznej [7]. WO3 w postaci krystalicznej może mieć strukturę krystalograficzną jednoskośną, trójskośną, rombową lub tetragonalną [8]. Warstwy na bazie TiO2 oraz WO3 otrzymywane są najczęściej metodami fizycznego osadzania z fazy gazowej (ang. Physical Vapor Deposition, PVD) lub chemicznego osadzania z fazy gazowej (ang. Chemical Vapor Deposition, CVD) [2]. W zależności od metody otrzymywania oraz sposobu obróbki poprocesowej, otrzymać można powłoki funkcjonalne o zupełnie odmiennych parametrach [1-4]. Modyfikacja szeregu parametrów cienkich warstw TiO2 i WO3 pozwala na uzyskanie powłok funkcjonalnych o zróżnicowanych właściwościach użytkowych [3]. W niniejszej pracy przedstawiono wpływ obróbki poprocesowej, tj. wygrzewania w wysokiej temperaturze, na właściwości powierzchni cienkich warstw TiO2 i WO3. Część eksperymentalna Cienkie warstwy TiO2 i WO3 nanies[...]

Właściwości antystatyczne nanokrystalicznych cienkich warstw na bazie tlenków tytanu i kobaltu DOI:10.15199/13.2017.7.3


  Antystatyczność jest właściwością materiału, określająca zdolność do zapobiegania gromadzeniu się na jego powierzchni ładunku elektrycznego [1]. Gromadzenie ładunku na powierzchni materiałów może powodować wiele negatywnych zjawisk np. zmianę parametrów pracy ogniw fotowoltaicznych w wyniku pokrycia ich powierzchni warstwą kurzu i zanieczyszczeń, pogorszenie jakości widzenia w przypadku soczewek okularowych lub wyświetlaczy w wyniku przyciągania cząsteczek kurzu. Może to też prowadzić do pogorszenia parametrów lub uszkodzenia elementów elektronicznych wrażliwych na przebicia w wyniku powstania wyładowania elektrostatycznego [2-3]. Rozwój technologii powoduje zwiększenie liczby dziedzin życia codziennego i przemysłu, w których właściwości antystatyczne odgrywają ważną rolę. Powoduje to również wzrost liczby badań i publikacji dotyczących zjawiska elektrostatycznego oraz sposobów zapobiegania gromadzenia się ładunku i ochrony przed negatywnymi skutkami zgromadzonego ładunku. Prowadzone prace badawcze dotyczą stosowania materiałów różniących się zawartością elementów i sposobem budowy materiału [4] czy rodzajem zastosowanych pierwiastków [6]. Ze względu na wspomnianą możliwość występowania wyładowania elektrostatycznego ESD (ang. Electrostatic Discharge) powstaje wiele prac dotyczących praktycznego zastosowania materiałów antystatycznych np. jako nieelektryzujące pokrycia podłóg, antystatyczna odzież i narzędzia, pojemniki i opakowania na wrażliwe elektrostatycznie elementy elektroniczne a nawet specjalne filtry i systemy klimatyzacji [7-12]. Niniejsza praca dotyczy badania właściwości antystatycznych, mikrostruktury oraz rezystancji powierzchniowej cienkich warstw będących mieszaniną tlenków tytanu i kobaltu o podobnym składzie, ale różniących się rozkładem pierwiastków w strukturze. Elektronika 7/2017 15 Rys. 1. Profile zastosowanych zmian PWM w procesie rozpylania magnetronowego: a) liniowy, b) w kształcie litery V oraz c[...]

 Strona 1