Wyniki 1-6 spośród 6 dla zapytania: authorDesc:"MACIEJ GRUSZKA"

Anodowe właściwości niklu w metanolowych roztworach CH3ONa

Czytaj za darmo! »

Przedstawiono badania anodowego roztwarzania niklu w bezwodnych roztworach CH3ONa z zastosowaniem technik polaryzacyjnych (LSV, CV, RDE) w szerokim zakresie potencjałów. Badano wpływ szybkości przemiatania, prędkości wirowania elektrody dyskowej oraz stężenia metoksylanu sodu na wygląd krzywych polaryzacyjnych. Ponadto przeprowadzono analizę powierzchni elektrody niklowej, po trawieniu w wyznaczonych potencjałach, za pomocą skaningowej mikroskopii elektronowej SEM wraz z analizą EDX. Z przeprowadzonych badań wynika, że w środowisku alkoholowym powstaje na powierzchni niklu barierowa warstewka metoksylowa, która jest analogiczna do warstw tlenkowych w środowiskach wodnych. Słowa kluczowe: nikiel, metanol, metoksylany, roztwarzanie anodowe Anodic dissolution of nickel in methanol solutions of CH3ONa This paper presents the research of anodic dissolution of nickel in anhydrous solutions of CH3ONa. The investigations of behaviour of nickel were carried out by polarization measurement (LSV, CV, RDE) in wide range of potentials. The effect of scan rates, disc rotation and concentration of CH3ONa on the polarization curves was investigated. Anodic oxidation of nickel surface in methanol solutions leads to several reactions with the formation of surface compounds being the products of metal and alcohol oxidation. The analysis of the nickel electrode surface after dissolution in designated potentials was performed using scanning electron microscopy SEM with EDX. The study shows that in alcohol environment the inhibiting layer is created on nickel surface, which is analog[...]

Anodowe właściwości niklu w metanolowych roztworach LiCl

Czytaj za darmo! »

Badano mechanizm anodowego roztwarzania niklu w bezwodnych metanolowych roztworach chlorku litu z wykorzystaniem technik polaryzacyjnych (LSV, CV, RDE) oraz przeprowadzono badania morfologii powierzchni (SEM, EDX). Reakcje powierzchniowe zachodzące na powierzchni elektrody prowadzą do powstania alkoksylowej warstwy zbudowanej z zaadsorbowanych cząstek -OCH3 tworzących kompleksy z niklem (Ni-OCH3). Badania SEM i EDX potwierdzają obecność tych połączeń na powierzchni elektrody niklowej po polaryzacji w roztworach metanolowych. Agresywne środowisko LiCl sprawia, że powyżej potencjału aktywacji (>0,3 V) obserwujemy trawienie metalu (korozja wżerowa). Słowa kluczowe: nikiel, metanol, roztwarzanie anodowe, pasywacja Anodic dissolution of nickel in methanol solutions of LiCl Anodic behavior of nickel was studied in anhydrous solutions of LiCl in protogenic solvent (methanol) by means of linear sweep voltammetry (LSV), cyclic voltammetry (CV), rotating disc electrode (RDE) and scanning electron spectroscopy with EDX analysis. Surface reactions occurring on the nickel electrode, lead to the formation of alkoxy fi lm, analogous to the oxide passive layer. The fi lm is built with adsorbed OCH3 groups, forming complexes with nickel (Ni-OCH3). SEM and EDX analysis of nickel after anodic polarization confi rms the presence of OCH3 compounds on the metal surface. Aggressive environment of LiCl facilitates the metal dissolution in transpassive range (>0.3 V). Keywords: nickel, methanol, anodic dissolution, passivity 1. Wstęp Nasze badania, prowadzone w ostatnich latach, wykazały, że w bezwodnych alkoholach powstaje na powierzchni metalu mniej lub bardziej stabilna warstwa powierzchniowa, która zachowuje się podobnie jak pasywna warstewka tlenkowa w środowiskach wodnych [1-8]. Grupa OH zostaje zastąpiona przez grupę OCH3, która adsorbuje się na powierzchni metalicznej tworząc kompleksy tupu (Mex[...]

Badanie procesu nanoszenia cienkich warstw węgla otrzymywanych metodą impulsowego magnetronowego rozpylania DOI:10.15199/ELE-2014-167


  Warstwy węglowe wzbudzają coraz większe zainteresowanie ze względu na swoje unikalne właściwości elektryczne, mechaniczne, optyczne i inne. Odmiany alotropowe węgla (grafit, fulereny, diament) mogą tworzyć różne formy strukturalne (grafen, warstwy dimentopodobne, nanorurki), a ich potencjalne wykorzystanie otwiera nowe perspektywy w różnych gałęziach przemysłu. Są optymalizowane i poszukiwane nowe technologie otrzymywania warstw na bazie węgla, a dobitnym przykładem polskich osiągnięć na tym polu jest wdrożenie przemysłowe produkcji grafenu w ostatnich miesiącach w ITME Warszawa. Warstwy węglowe są otrzymywane między innymi metodami PVD (np. rozpylanie za pomocą wiązki jonów, z wykorzystaniem układów magnetronowych lub urządzeń działających z wyładowaniem łukowym) oraz metodami CVD (np. PECVD - ang. Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition). Jednymi z pierwszych, którzy otrzymali izolacyjne warstwy dimentopodobne, tzw. DLC (ang. Diamond-Like Carbon) byli S. Aisenberg, R. Chabot [1]. Osadzali oni warstwy DLC za pomocą źródła plazmowego (układ dwuelektrodowy - katoda i anoda wykonane z węgla) wytwarzającego jony węgla i argonu. Od tego momentu następuje dynamiczny rozwój technologii warstw dimentopodobnych. W strukturze warstw węglowych występują wiązania sp2 oraz sp3 i w zależności od tego, które dominują, otrzymuje się odpowiednio warstwy grafitowe lub/ i diamentopodobne. Warstwy DLC wykazują niezwykłą twardość, odporność na erozję, ścieranie, przeźroczystość w zakresie światła podczerwonego, obojętność chemiczną. Charakterystyczną cechą procesów otrzymywania warstw DLC, w przeciwieństwie do tradycyjnej technologii wytwarzania diamentów (wysokie ciśnienie i temperatura), jest osadzanie w warunkach obniżonego ciśnienia przy stosunkowo niskich temperaturach, co otwiera nowe możliwości wykorzystywania tych powłok na podłożach nieodpornych termicznie. Zainteresowanie warstwami DLC powoduje, że poszukiw[...]

Anodowe właściwości niklu w metanolowych roztworach LiClO4

Czytaj za darmo! »

Mechanizm anodowego roztwarzania niklu w bezwodnych środowiskach organicznych nie jest tak dobrze opisany, jak mechanizm roztwarzania tego metalu w roztworach wodnych. Szczególnie niewiele poświęcono miejsca w literaturze mechanizmowi anodowego roztwarzania niklu w bezwodnych alkoholowych roztworach elektrolitów [1÷6]. Poznanie tego mechanizmu jest bardzo ważne, gdyż nikiel i jego tlenek NiO są materiałami powszechnie stosowanymi w produkcji katalizatorów utleniania związków organicznych [7÷9]. Poza tym produkty anodowego roztwarzania niklu w roztworach alkoholowych - alkosylany niklu - mogą być prekursorami tlenku niklu [10]. Metanol podobnie jak woda, należy do grupy rozpuszczalników aprotycznych, ulega autodysocjacji zgodnie z równaniem: 2CH3OH CH3OH2 CH O + Û + 3 - (1) Właściwościami jest zbliżony do wody, dlatego zachowanie się metali w jego środowisku powinno być podobne do zachowania się metali w środowisku wodnym. Polarna cząsteczka metanolu adsorbuje się na powierzchni metalicznej i w zależności od zawartości wody w alkoholu powstają różne produkty elektrokatalitycznego rozkładu metanolu [4]. Grupa OCH3 pełni analogiczną rolę do grupy OH i zakłada się, że grupy metoksylowe, adsorbując się na powierzchni metalicznej, tworzą z nią kompleks M(MOCH3)ad [4]. Metoksylacja powierzchni prowadzi do jej pasywacji w zakresie małych nadpotencjałów, zwykle do potencjału utleniania metanolu [4]. W niniejszej pracy badano elektrochemiczne zachowanie się niklu w bezwodnych roztworach CH3OH-LiClO4 w aspekcie udziału grup metoksylowych w pasywacji powierzchni niklu. Badania te miały na celu określenie mechanizmu tworzenia warstwy alkoksylowej oraz badanie jej stabilności w szerokim zakresie potencjałów. Część eksperymentalna Badania elektrochemiczne prowadzono na polikrystalicznych próbkach niklowych o czystości 99,99%. Próbki w formie dysku cięto z pręta i oprawiano w teflon. Pole powierzchni przekroju pracującej elektrody[...]

Wpływ parametrów pracy magnetronu na warunki nanoszenia cienkich warstw podczas procesu rozpylania


  Parametrami procesu magnetronowego rozpylania mogą być miedzy innymi temperatura i polaryzacja napylanego podłoża (prąd jonowy płynący do podłoża), które są parametrami technologicznymi procesu nanoszenia. Ustalając ich wartość, można w kontrolowany sposób wpływać na warunki kondensacji cienkich warstw na podłożach. Znajduje to odzwierciedlenie na modelu budowy cienkich warstw otrzymywanych metodą rozpylania, zaproponowanego przez Thorntona [1] i modyfikowanego przez Musila [2]. Budowa osadzanych warstw wynika z relacji miedzy temperaturą podłoża i temperaturą topnienia nanoszonego materiału oraz ciśnienia procesu, które określa energie osadzanych cząstek. Oba wymienione parametry są ze sobą ściśle związane i powinny być kontrolowane. Niestety tak nie jest, ponieważ obok grzania intencjonalnego podłoży pojawia się ich dodatkowe dogrzewanie powodowane energią cząstek kondensujących na podłożu. Temperatura ta może być ~100…150oC większa niż mierzona. Określenie wartości tej temperatury jest niejednoznaczne. Autorzy [3] podkreślają, że należałoby uwzględnić raczej trzy parametry, a mianowicie temperaturę podłoża Tp, temperaturę warstwy Tw i temperaturę powierzchni warstwy Tpw. Temperatura układu podłoże-warstwa narasta w miarę zbliżania się do powierzchni nanoszonej warstwy. Powodem istnienia gradientu temperatury jest egzotermiczne uwalnianie ciepła podczas przemiany par materiału w ciało stałe. Ponadto źródłem ciepła dostarczanego do napylanego podłoża są: jony i neutrale bombardujące podłoże z osadzaną warstwą oraz promieniowanie z targetu, które mimo jego chłodzenia jest znaczącym elementem w transferze ciepła do podłoża. W przypadku procesów reaktywnych dodatkowo należy uwzględniać ciepło reakcji, podczas której tworzone są związki chemiczne na podłożu. Ef[...]

Nanostemplowanie w zastosowaniu do wytwarzania struktur fotonicznych w GaN


  Azotek galu jest atrakcyjnym materiałem do zastosowań w przyrządach elektronicznych wysokich mocy i dużych częstotliwości oraz zaawansowanych aplikacjach optoelektronicznych [1-3]. Duża odporność chemiczna tego materiału z jednej strony sprawia, że urządzenia mogą pracować w agresywnym środowisku, z drugiej strony utrudnia jego strukturyzację. W przypadku struktur fotonicznych, charakteryzujących się periodycznością, perspektywiczną techniką jest nanostemplowanie. Umożliwia ono wykonanie dużej ilości procesów w krótkim czasie przy uzyskaniu wzorów o wymiarach sięgających 20 nm. Ideą procesu nanostemplowania w trybie Th-NIL jest mechaniczne odciśnięcie wzoru stempla w warstwie rezystu ogrzewanego powyżej temperatury zeszklenia Tg (ang. Glass Transition Temperature), a następnie chłodzonego w celu utrwalenia powstałego odcisku. W przypadku trybu UV, etapem odpowiadającym za utrwalenie powstałego odcisku jest promieniowanie UV, dzięki któremu następuje usieciowanie użytego rezystu. Do transferu submikrometrowych wzorów w głąb azotku galu wykorzystuje się technikę trawienia w plazmie o wysokiej gęstości ICP (ang. Inductive Coupled Plasma). Najszerzej stosowana jest plazma chlorowa oraz jej warianty z domieszką trójchlorku boru [4-6], azotu [7] czy argonu [8, 9]. Celem prezentowanej pracy było opracowanie technologii strukturyzacji GaN technikami nanostemplowania oraz trawienia ICP. Planując badania określono następujące kryteria oceny procesów: - profil trawienia możliwie najbardziej anizotropowy; - szybkość trawienia powyżej 100 nm/min (niższe szybkości powodują wydłużenie czasów trawienia struktur o głębokościach powyżej 1000 nm); - chropowatość wytrawionej powierzchni (RMS) poniżej 20 nm. Eksperyment W eksperymencie wykorzystano trzy rodzaje azotku galu o orientacji (0001): warstwy epitaks[...]

 Strona 1