Wyniki 1-7 spośród 7 dla zapytania: authorDesc:"Dariusz Zdebik"

Use of waste aluminum etching bath to remove sulfates(VI) from wastewater from production of printed circuit boards Wykorzystanie odpadowej kąpieli z trawienia aluminium do usuwania siarczanów(VI) ze ścieków pochodzących z produkcji obwodów drukowanych DOI:10.15199/62.2015.3.9


  A SO4 2--contg. wastewater from prodn. of printed circuit boards was treated with a spent bath from Al etching, Ca(OH)2 and NaOH or HCl at 19°C and pH 11.2-12.0 for 30 min (Al3+ concn. 0.148-0.228 mg/L, Ca2+ concn. 0.633- 1.033 mg/L) to study the pptn. of 3CaO·Al2O3·3CaSO4·32H2O. The SO4 2- concn. in the system decreased from 1035 mg/L down to even 46 mg/L. The results were presented as polynomial regression equations. The concn. of Cu2+ ions in the system also decreased from 1.6 mg/L down to 0.9 mg/L with the increasing pH (from 10.93 up to 12.27). Przedstawiono możliwość zastosowania odpadowej kąpieli z trawienia aluminium do usuwania siarczanów(VI) ze ścieków pochodzących z produkcji obwodów drukowanych, zawierających siarczany(VI) oraz skompleksowane jony miedzi(II). Do planowania eksperymentu i analizy uzyskanych danych eksperymentalnych zastosowano program Statistica 10, wykorzystując w tym celu metodę powierzchni odpowiedzi. Przedstawiono możliwość uzyskania stężenia siarczanów(VI) poniżej 500 mg/dm3 w oczyszczonych ściekach przy zasto-sowaniu dawek glinu (kąpiel odpadowa) i wapnia bliskich dawkom stechiometrycznym oraz prowadzeniu procesu przy pH ok. 11,6 przez 30 min. Wskazano także na możliwość strącania jonów miedzi(II) dzięki prowadzeniu procesu w środowisku silnie alkalicznym. Stwierdzono, że skuteczność strącania jonów miedzi(II) jest związana z obecnością w ściekach związków kompleksujących. Siarczany(VI) występują w wodach naturalnych w dość szerokim zakresie stężeń, a ich źródła to m.in. gleba, pokłady geologiczne oraz ścieki przemysłowe. Zwiększone stężenia siarczanów(VI) notuje się w wodach kopalnianych. Powstają one wskutek procesów rozkładu pirytów do siarczanu(VI) żelaza(II) oraz kwasu siarkowego(VI). Procesy te przebiegają w obecności tlenu, wody lub azotanów(V). Zawartość siarczanów(VI) powyżej 250 mg/dm3 w wodzie do picia i na potrzeby gospodarcze jest przyczyną jej gorzkiego sm[...]

Treatment of wastewater from the photochemical production of printed circuit boards by using Fenton reagent after addition of disodium percarbonate Oczyszczanie ścieków z fotochemicznej produkcji obwodów drukowanych z zastosowaniem odczynnika Fentona z dodatkiem nadwęglanu disodu DOI:10.15199/62.2015.6.12


  Wastewater from prodn. of printed circuit boards was treated with Na2CO3·3H2O2, FeSO4 and H2SO4 at 19°C and pH 2.0-4.0 for 60 min (Fe2+ concn. 400-600 mg/L, Na2CO3·3H2O2 concn. 8000-12000 mg/L). The chem. O2 demand in the system decreased from 1690 mg/L down to even 432 mg/L. The results were presented as polynomial regression equations. The concn. of Cu2+ ions in the system also decreased from 25.9 mg/L down to 0.4 mg/L with the increasing pH (to 12.5). Przedstawiono możliwość zastosowania nadwęglanu disodu, jako alternatywnego źródła H2O2 w reakcji Fentona, zastosowanej do oczyszczania ścieków pochodzących z produkcji obwodów drukowanych, które charakteryzowały się wysoką wartością CHZT(Cr) oraz wysokim stężeniem jonów miedzi(II). Planowanie eksperymentu i analizę uzyskanych danych eksperymentalnych przeprowadzono przy użyciu programu Statistica 10, wykorzystując w tym celu metodę powierzchni odpowiedzi. Przedstawiono możliwość zmniejszenia wartości CHZT(Cr) badanych ścieków o ok. 72,8%, przy równoczesnym zmniejszeniu stężenia miedzi o ok. 98,5%. Wskazano na możli-wość skutecznego strącenia jonów miedzi(II) dzięki degradacji związków kompleksowych miedzi(II) przez rodniki hydroksylowe generowane w reakcji Fentona. Coraz powszechniej stosowane są metody oczyszczania ścieków przemysłowych przez pogłębione utlenianie AOP (advanced oxidation processes). Umożliwiają one skuteczne usuwanie wielu toksycznych związków organicznych poprzez ich utlenianie do ditlenku węgla i wody lub innych pośrednich produktów o zmniejszonej toksyczności. Reagenty stosowane w tych procesach ulegają rozkładowi na nieszkodliwe lub często pożądane z punku widzenia skuteczności procesu utleniania produkty uboczne1). Metody te obejmują stosowanie silnych utleniaczy, takich jak ozon, ditlenek diwodoru i/lub fotony, które są zdolne do generowania wysoce reaktywnych cząsteczek pośrednich, np. rodników hydroksylowych (OH)2, 3). Względną zdo[...]

Use of chitosan and its modifications for removal of reactive dyes from aqueous solutions Zastosowanie chitozanu i jego modyfikacji do usuwania barwników reaktywnych z roztworów wodnych DOI:10.15199/62.2015.12.19


  Chitosan powder and its beads (unmodified, cross-linked with glutaraldehyde or epichlorohydrin optionally conditioned with NaHSO4) were used for adsorption of 2 com. dyes. The highest adsorption capacity (4000-6000 mg/g) was achieved at cross-linked chitosan concn. 10.0 g/L, sorption time 24 h, pH 3.0 and initial concn. of dyes 1942.0-2014.0 mg/L. Chitosan powder was less efficient (330-590 mg/g). Adsorption processes were described by Freundlich or Langmuir isotherms. Przedstawiono wyniki badań nad usuwaniem barwników reaktywnych Reactive Red 198 i Reactive Blue 81 z roztworów wodnych w procesie sorpcji statycznej. Jako sorbent stosowano chitozan i jego modyfikacje: hydrożelowe kulki chitozanowe oraz ich sieciowane i kondycjonowane postacie. Jako czynniki sieciujące stosowano epichlorohydrynę oraz aldehyd glutarowy, a do kondycjonowania kulek chitozanowych używano wodorosiarczanu sodu. Modyfikacje chitozanu zwiększały pojemność sorpcyjną sorbentu, polepszając tym samym efekty usuwania barwników z ich wodnych roztworów. Najbardziej efektywnie sorpcja barwników przebiegała w kwaśnym środowisku. Chitozan jest naturalnym polisacharydem otrzymywanym z chityny. Jest jednym z najbardziej dostępnych w środowisku naturalnym produktów odnawialnych, otrzymywanych w procesie biosyntezy. Szacunkowo ilość chityny uzyskiwanej rocznie ze źródeł naturalnych wynosi 109 kg1, 2). Podstawowym źródłem chityny są egzoszkielety skorupiaków i mięczaków morskich3). Chitozan jest otrzymywany w procesie chemicznej lub enzymatycznej deacetylacji chityny. W trakcie deacetylacji acetyloaminowe grupy chityny są częściowo lub całkowicie pozbawiane grup acetylowych. Nazwę chitozan stosuje się do zmodyfikowanej chityny o zawartości grup acetylowych mniejszej niż 25%4). Chitozan jest nierozpuszczalny w wodzie, w substancjach o charakterze zasadowym oraz w większości rozpuszczalników organicznych. Rozpuszcza się w większości wodnych roztworów kwasów organ[...]

Treatment of wastewater from the photochemical production of printed circuit boards by using Fenton reagent after addition of calcium peroxide Oczyszczanie ścieków z fotochemicznej produkcji obwodów drukowanych z zastosowaniem odczynnika Fentona z dodatkiem nadtlenku wapnia DOI:10.15199/62.2016.11.24


  Wastewater from prodn. of printed circuit boards was treated with CaO2, FeSO4 and H2SO4 at 18°C and pH 2-4 for 60 min (Fe2+ concn. 400-600 mg/L, CaO2 concn. 7500-9500 mg/L). The COD value in the system decreased from 1690 mg/L down to even 339 mg/L. The results were presented as polynomial regression equations. The concn. of Cu2+, Ni2+ and Sn2+ ions in the system also decreased from 25.9 mg/L down to 0.2 mg/L, from 6.9 mg/L down to 0.1 mg/L and from 10.2 mg/L down to <0.05 mg/L, resp., with the increasing pH (up to 12). Przedstawiono możliwość zastosowania CaO2 jako alternatywnego źródła H2O2 w reakcji Fentona do oczyszczania ścieków pochodzących z produkcji obwodów drukowanych, które charakteryzowały się zwiększoną wartością ChZT(Cr) oraz zwiększonymi stężeniami jonów Cu2+, Ni2+ i Sn2+. Planowanie eksperymentu i analizę uzyskanych danych eksperymentalnych przeprowadzono przy użyciu oprogramowania Statistica 10, wykorzystując metodę powierzchni odpowiedzi. Przedstawiono uzyskane wyniki obniżenia stężenia ChZT(Cr) badanych ścieków o ok. 80%, przy równoczesnym zmniejszeniu stężenia miedzi o 99,2%, niklu o 98,6% i praktycznie całkowitym wytrąceniu cyny (<0,05 mg/L). Wskazano na możliwość skutecznego strącenia jonów Cu(II) oraz Ni(II), dzięki degradacji związków kompleksowych Cu(II) i Ni(II) przez rodniki hydroksylowe powstające w reakcji Fentona. Obwody drukowane PCBs (printed circuits boards) to cienkie płytki z materiału izolacyjnego, na których znajdują się połączenia przewodzące prąd elektryczny wraz z punktami lutowniczymi, służącymi do montażu podzespołów elektronicznych. Mają one zastosowanie we wszystkich urządzeniach elektronicznych, są produktami wysokiej technologii, a proces ich produkcji jest pracochłonny i wymaga wysokich nakładów inwestycyjnych. Wykonie PCB, w zależności od jego stopnia skomplikowania, związane jest z koniecznością przeprowadzenia nawet 50 procesów/etapów jednostkowych. W procesach produkcj[...]

Odzysk cyny z osadów galwanicznych powstających w procesie oczyszczania stężonych ścieków pochodzących z cynowania elektrochemicznego DOI:10.15199/62.2017.6.15


  Woda występująca w przyrodzie stanowi naturalne środowisko, w którym przebiega wiele procesów fizycznych i chemicznych. Ponieważ znaczna ilość substancji nieorganicznych i organicznych charakteryzuje się dobrą rozpuszczalnością w wodzie, jest ona wykorzystywana jako rozpuszczalnik i środowisko wielu procesów chemicznych. Generuje to powstawanie ścieków, które ze względu na często obecne w nich substancje niebezpieczne nie mogą być wprowadzane bezpośrednio do urządzeń kanalizacyjnych. Ścieki te są poddawane procesom oczyszczania najczęściej w zakładowych oczyszczalniach, celem usunięcia niebezpiecznych związków chemicznych, np. metali ciężkich. Coraz częściej prowadzi się jednocześnie odzyskiwanie Główny Instytut Górnictwa, Katowice Maciej Thomas, Dariusz Zdebik*, Henryk Świnder Recovery of tin from electroplating sludges generated in the treatment of the concentrated wastewater from electrochemical tin plating Odzysk cyny z osadów galwanicznych powstających w procesie oczyszczania stężonych ścieków pochodzących z cynowania elektrochemicznego DOI: 10.15199/62.2017.6.15 Pracownia Technologii Wody i Ścieków, Zakład Ochrony Wód, Główny Instytut Górnictwa w Katowicach, tel.: (32) 259-24-80, fax: (32) 259-65-33, e-mail: dzdebik@gig.eu Dr inż. Maciej THOMAS w roku 2013 ukończył studia na Wydziale Inżynierii Materiałowej i Ceramiki Akademii Górniczo-Hutniczej im. Stanisława Staszica w Krakowie, a w 2012 r. studia na Wydziale Technologii Żywności Uniwersytetu Rolniczego im. Hugona Kołłątaja w Krakowie. W 2016 r. uzyskał stopień doktora nauk technicznych w dyscyplinie inżynieria środowiska. Specjalność - technologia uzdatniania wody i oczyszczania ścieków przemysłowych, chemia i mikrobiologia wody i ścieków, procesy przygotowania wody na cele przemysłowe oraz ochrona przed korozją elektrochemiczną i mikrobiologiczną przemysłowych układów wodnych. Dr inż. Dariusz ZDEBIK w roku 1998 ukończył studia na Wydziale Mechaniki i Robotyk[...]

A toxic effect of wastewater from the production of printed circuit boards on activated sludge from municipal wastewater treatment plant Analiza toksycznego wpływu ścieków pochodzących z produkcji obwodów drukowanych na osad czynny z komunalnej oczyszczalni ścieków DOI:10.15199/62.2016.7.4


  The title wastewaters and aq. CuSO4, NiCl2 and SnSO4 solns. were studied for toxicity against an aerated activated sludge by respirometry to det. their inhibition degree. The highest inhibition degree (near 100%) was obsd. for Cu-contg. solns. Przeanalizowano toksyczny wpływ ścieków z produkcji PCB na stan osadu czynnego z biologicznej oczyszczalni ścieków. Zbadano również wpływ roztworów wodnych CuSO4, NiCl2 i SnSO4 na inhibicję aktywności oddechowej osadu czynnego. Najsilniejszy efekt toksyczny powodujący zahamowanie aktywności oddechowej mikroorganizmów osadu czynnego zaobserwowano w przypadku roztworów zawierających jony miedzi. Jednowarstwowe lub częściej wielowarstwowe obwody drukowane PCB (printed circuit board) stanowią podstawowe elementy konstrukcyjne wielu urządzeń elektronicznych i produkowane są na bazie laminatów epoksydowo-szklanych, pokrytych cienką warstwą metalicznej miedzi, na powierzchnię której metodą sitodruku nanosi się zaprojektowany wcześniej układ ścieżek. Przygotowany w ten sposób laminat poddaje się skomplikowanej i wieloetapowej obróbce chemicznej. W obwodzie drukowanym, laminat pełni rolę izolatora, na którym osadzone są ścieżki przewodzące oraz punkty lutownicze przeznaczone do montażu elementów elektronicznych1, 2). W toku produkcji obwodów drukowanych, stosowane są procesy mechaniczne (np. wiercenie otworów, szczotkowanie celem usunięcia na mokro utlenionej warstwy miedzi, rozwinięcia i zmatowienia powierzchni) i fotochemiczne oraz procesy chemicznego i elektrochemicznego nakładania takich metali, jak miedź, cyna, nikiel, złoto i srebro. Procesy fotochemiczne (metody fotodruku i sitodruku) służą do przeniesienia obrazu mozaiki z kliszy na płytkę. Po naświetleniu, płytki poddawane są procesowi wywoływania w odpowiedniej kąpieli (realizowanego metodą natryskową) w celu usunięcia niespolimeryzowanej warstwy fotopolimeru. Podobne procesy stosuje się do usuwania fotopolimerowych masek przeciwlu[...]

Koncepcja odzysku pierwiastków ziem rzadkich z kwaśnych wód kopalnianych z zastosowaniem sekwencyjnego strącania DOI:10.15199/62.2018.11.20


  Pierwiastki ziem rzadkich (REE) to grupa 14 lantanowców o liczbie atomowej od 57 (La) do 71 (Lu), które charakteryzują się bardzo podobnymi właściwościami fizykochemicznymi. Do grupy tej dodatkowo należą skand (Sc) oraz itr (Y). REE są szeroko stosowane w wielu procesach przemysłowych, m.in. przy produkcji nadprzewodników, magnesów, pigmentów, katalizatorów i tworzyw sztucznych1-3). W literaturze stosuje się różne podziały REE, przy czym najczęściej dzieli się je na 2 lub 3 grupy. Podział REE na dwie grupy obejmuje lekkie ziemie rzadkie LREE (light rare earth elements) od La do Gd oraz ciężkie ziemie rzadkie HREE (hard rare earth elements) od Tb do Lu łącznie z Y. Podział REE na 3 grupy obejmuje lekkie ziemie rzadkie LREE (od La do Nd z wyjątkiem Pr), średnie lub środkowe ziemie rzadkie MREE (medium rare earth elements) od Nd do Dy lub Ho oraz ciężkie ziemie rzadkie HREE (od Dy lub Ho do Lu). Niezależnie od tych podziałów REE funkcjonuje w literaturze również podział na grupę cerową, itrową i terbową4-7). W środowisku naturalnym, czternaście spośród REE występuje na trzecim stopniu utlenienia, z wyjątkiem ceru, samaru, europu i iterbu, które dodatkowo w zależności od wartości potencjału oksydacyjno-redukcyjnego środowiska, mogą występować również na drugim i czwartym stopniu utlenienia. Przykładowo, w środowisku wodnym jony ceru(III) mogą być utlenione do jonów ceru(IV), a jony europu(III) mogą być zredukowane do jonów europu(II)6, 7). Pomimo znacznego rozproszenia REE, ich średni udział w skorupie ziemskiej wynosi ok. 0,018% i dorównuje zawartością takim metalom nieżelaznym jak Cu, Zn, Ga, Ge, As, Cd, In, Sn, 97/11(2018) 1917 Dr inż. Maciej THOMAS w roku 2013 ukończył studia na Wydziale Inżynierii Materiałowej i Ceramiki Akademii Górniczo-Hutniczej im. Stanisława Staszica w Krakowie, a w 2012 r. studia na Wydziale Technologii Żywności Uniwersytetu Rolniczego im. Hugona Kołłątaja w Krakowie. W 2016 r. uzyskał stopień doktora [...]

 Strona 1