Wyniki 1-2 spośród 2 dla zapytania: authorDesc:"Krystian Czernek"

Dynamika pierścieniowego dwufazowego przepływu gazu i cieczy bardzo lepkiej

Czytaj za darmo! »

Przedstawiono wyniki badań i analiz dotyczących oceny dynamiki współprądowego pierścieniowego przepływu opadającego w rurach pionowych cieczy bardzo lepkiej (powyżej 100 mPa×s) i gazu. Podano systematykę struktur przepływu oraz zakresy ich występowania. Scharakteryzowano i opisano wybrane wielkości charakteryzujące naturę przepływających warstewek cieczy o dużej lepkości. Dokonano analizy[...]

The annular flow of gas-liquid-liquid multiphase mixture in pipes of thin layer (film) evaporators Przepływ pierścieniowy mieszaniny wielofazowej gaz-ciecz-ciecz w rurach aparatów cienkowarstewkowych DOI:10.15199/62.2017.3.21


  Hydrodynamics of annular falling flow of gas and 2 immiscible liqs. in vertical pipe was studied. The new flow pattern map valid for both liq.-liq. 2-phase flow and gas-liq.-liq. 3-phase flow were developed. The effects of flow parameters and phase properties on the liq. film thicknesin the flow systems were approximated with resp. equations. Przedstawiono wyniki badań hydrodynamiki pierścieniowego, opadającego w rurze pionowej przepływu wielofazowego gazu i dwóch wzajemnie niemieszających się cieczy. W wyniku analizy danych doświadczalnych wyznaczono obszary występowania określonych struktur przepływu na nowo opracowanej mapie przepływu, słusznej zarówno dla przepływu dwufazowego ciecz-ciecz, jak i dla przepływu trójfazowego gaz-ciecz-ciecz. Opracowano także równania opisujące wpływ wybranych parametrów przepływowych oraz właściwości faz na uzyskiwanie określonych wartości grubości filmów cieczy. Przemysłowe wykorzystanie przepływów wielofazowych wymaga metod przewidywania ich zachowania się w konkretnych urządzeniach i aparatach. W wielu przypadkach do prawidłowej pracy aparatów wymagane jest także wytworzenie korzystnego rodzaju przepływu. Do takiej grupy aparatów należą wyparki cienkowarstewkowe i rurowe reaktory heterogeniczne. Głównym wymogiem w procesie projektowania aparatów cienkowarstewkowych jest uniknięcie ich zalania lub tworzenia się suchych plam, które są powodem zmniejszenia ich wydajności, a w wielu przypadkach także ich awarii. W tego typu aparatach korzystnym rodzajem przepływu jest przepływ pierścieniowy, czyli taki, w którym ciecz płynie cienką warstwą po ścianie rury, a gaz ze znaczną prędkością jej środkiem. Budowę typowego aparatu wyparnego, z hydraulicznie wytwarzanym filmem cieczy (WFH), przedstawiono na rys. 1. Fig. 1. Evaporator type WFH Rys. 1. Aparat wyparny typu WFH; a) schemat ogólny, b) układ zasilania typu dysza centralna, 1 - komora gazu, 2 - komora cieczy, 3 - rura zasilająca, 4 - rura[...]

 Strona 1