Wyniki 1-2 spośród 2 dla zapytania: authorDesc:"Krzysztof WOŹNY"

Kompensacja asymetrii prądów i napięć powodowanej odbiornikami i odnawialnymi źródłami energii za pomocą transformatora symetryzującego w sieciach niskich napięć DOI:10.15199/48.2019.09.39

Czytaj za darmo! »

Intensywny rozwój energetyki rozproszonej wynikający z postępującego wyczerpywania się zasobów złóż paliw kopalnych, konieczności ograniczania emisji substancji szkodliwych do atmosfery oraz rosnące ceny energii elektrycznej powodują, że obserwowany jest coraz większy udział przyłączanych do sieci niskich napięć jednofazowych odbiorników i źródeł odnawialnych, takich jak: pompy ciepła, instalacje fotowoltaiczne oraz układy mikrokogeneracyjne. Niestety, przyłączanie tych urządzeń do sieci niskich napięć znacząco wpływa na wzrost asymetrii prądów i napięć, głównie poprzez duże zróżnicowanie w produkcji (zależnej od warunków atmosferycznych) i popycie (zależnym od funkcjonowania odbiorców) na energię elektryczną w danym przedziale czasu oraz poprzez nierównomierne rozłożenie i przypadkowe (losowe) załączanie tych urządzeń w tym samym czasie do poszczególnych faz układu trójfazowego [1]. Zwiększaniu obecnego poziomu asymetrii sprzyjają pośrednio obecne regulacje prawne zawarte m.in. w ustawie Prawo energetyczne [2], które stanowią, iż odbiorcy w ramach istniejącej mocy przyłączeniowej mogą przyłączać swoje instalacje odnawialne tylko na podstawie zgłoszenia przyłączenia (poinformowaniu OSD o fakcie zainstalowania mikroinstalacji), z pominięciem procedury określania warunków przyłączenia dla instalacji OZE. Kolejnym aspektem mającym pośredni wpływ na zwiększanie poziomu asymetrii w sieciach niskich napięć jest niewystarczająca komunikacja pomiędzy gminami, które otrzymały dofinansowanie na montaż znacznej liczby instalacji OZE dla swoich mieszkańców, a OSD. Z reguły OSD dowiadują się o przyłączeniu instalacji OZE do ich sieci dopiero po dużej liczbie przesłanych zgłoszeń przyłączenia oraz reklamacjach od odbiorców, którzy zauważyli nieprawidłowe działanie swoich instalacji OZE lub odbiorników energii elektrycznej. Wszystkie te aspekty powodują, że OSD często stawiani są przed faktem dokonanym i nie mają pełnej kontroli nad i[...]

LabVIEW controller for storage results and control parameters of low thickness antireflection coatings deposition processes DOI:10.15199/13.2016.2.6


  W artykule przedstawiono system do kontroli, wizualizacji i zapisu danych procesów PVD. System został zaprojektowany w oparciu o środowisko LabVIEW i został z powodzeniem zastosowany w przemyśle optycznym. Wizualizacja jest bardzo intuicyjna dla operatora daje łatwą możliwość kontroli wszystkich parametrów procesu. Zapisane dane pomagają w polepszeniu jakości powłok i dają możliwość analizy procesów. Niski koszt wprowadzenie systemu czyni go również bardzo użytecznym narzędziem do modyfikacji starszego typu napylarek próżniowych oraz daje szansę stopniowej jego rozbudowy. Słowa kluczowe: sterownik procesu, programowanie graficzne LabVIEW, Regulator przepływu masy, powłoki antyrefleksyjne.Dynamic development of PVD (Physical Vapour Deposition) technology noticeable in the recent years causes increasing technological restrictions concerning repeatability of coatings processes. In case of production of multilayers AR (Antireflective Coatings) on optical parts the restrictions are especially high. The most important parameters in PVD technology for AR coatings are: rate of deposition, final thickness of layers of coatings, level of vacuum during deposition processes and stability of temperature of substrates. In many cases a stable dosing of technological gases is a critical point for deposition. The design of the dedicated system for AR coatings deposition processes working in graphical LabVIEW programming environments for control, intuitive visualization and storage of results is presented in this paper. The system allows to create a kind of library that helps to recreate th[...]

 Strona 1