Wyniki 1-4 spośród 4 dla zapytania: authorDesc:"Piotr Boszkowicz"

Osadzanie warstw w warunkach plazmy: zarodkowanie czy polimeryzacja?

Czytaj za darmo! »

Podjęto dyskusję odnośnie do mechanizmu osadzania fazy stałej z fazy gazowej w procesie CVD. Rozważono dwa mechanizmy, zarodkowanie i polimeryzację oraz poddano ocenie prawdopodobieństwo ich wystąpienia w procesie depozycji materiałów krzemowych. W tym celu obliczono przykładowe wartości promieni krytycznych zarodka oraz wielkości bariery energetycznej dla różnej temperatury i różnych przesyc[...]

Reakcje prowadzące do wzrostu warstw a-SiNx:H w układzie PE CVD

Czytaj za darmo! »

Przedstawiono model wzrostu warstw azotku krzemu a-SiNx:H na drodze chemicznego osadzania z fazy gazowej. Model uwzględnia przebieg reakcji chemicznych w fazie gazowej i reakcji heterogenicznych na powierzchni w roli katalizatora. W warunkach plazmy (układ PE CVD), reakcje heterogeniczne przebiegają głównie z udziałem aktywnych rodników, a zasadniczy wpływ na ich przebieg ma wodór. Uzasadnion[...]

Warstwy a-C:N:H na polimerach osadzane w układzie PE CVD

Czytaj za darmo! »

Głównym powodem decydującym o tak dużym zainteresowaniu polimerami jest łatwy i niedrogi sposób ich wytwarzania z ropy naftowej. Ponadto posiadają one wiele atrakcyjnych właściwości. Są lekkie i odporne na korozję, co czyni je ważnymi materiałami konstrukcyjnymi. Inne są wykorzystywane w zaawansowanych zastosowaniach medycznych. Są również kluczowymi materiałami podczas wytwarzania półprzewodnikowych układów scalonych oraz zaawansowanych urządzeń optycznych. Niestety wiele z tych zastosowań polimerów nie może być rozwijanych ze względu na niskie parametry charakteryzujące ich powierzchnię. Powierzchnia polimerów może łatwo ulec zarysowaniu i zmieniać się pod wpływem czasu w wyniku kontaktu z otaczającym je środowiskiem. Oczywistym sposobem polepszenia ich właściwości jest modyfikacja powierzchni. Najbardziej efektywnymi metodami są mokre techniki chemiczne, laserowe i plazmowe oraz technologie warstwowe, włącznie z chemicznym osadzaniem z fazy gazowej (CVD). Problemem pozostaje jednak fakt, że polimery są wrażliwe na działanie temperatury i mogą być poddawane obróbce jedynie w umiarkowanym zakresie temperatury. W przypadku technologii warstwowych może to stanowić pewną trudność w tworzeniu warstw charakteryzujących się dobrą przyczepnością do podłoża [1]. Metodą, która daje możliwość pokonania tej bariery jest zastosowanie niekonwencjonalnej syntezy jaką jest chemiczne osadzanie z fazy gazowej w warunkach plazmy niskotemperaturowej. W plazmowo wspomaganym CVD (PE CVD) warstwy mogą być otrzymywane w temperaturze pokojowej lub niewiele wyższej, bez pogorszenia ich przyczepności [2÷4]. Typ zastosowanej warstwy (jej mikrostruktura, skład chemiczny i struktura chemiczna) powinien być zaprojektowany tak, aby sprostać oczekiwaniom stawianym układowi warstwa-podłoże. W przypadku zastosowań tribologicznych modyfikowana powierzchnia powinna być odporna na zużycie i korozję, jak również powinna charakteryzować się niską chropowatością [...]

Warstwy a-SiNx:H o różnej zawartości azotu osadzane w układzie PECVD

Czytaj za darmo! »

Technologie warstwowe wychodzą obecnie naprzeciw rosnącemu zapotrzebowaniu na materiały nowej generacji i tym samym stanowią kluczowy obszar inżynierii powierzchni i inżynierii materiałowej [1÷4]. Wykorzystuje się je w celach modyfikacji właściwości powierzchni różnego typu materiałów (ceramicznych, metalicznych, polimerów organicznych), a także w otrzymywaniu materiałów funkcyjnych, np. dla elektroniki czy fotowoltaiki. Zastosowanie znajdują zarówno cienkie warstwy o grubości rzędu kilku warstw atomowych, jak i warstwy, których grubość sięga kilku, kilkunastu mikrometrów, najczęściej uzyskiwane sposobem chemicznego lub fizycznego osadzania z fazy gazowej. Warstwy niestechiometrycznego azotku krzemu a-SiNx:H, które są przedmiotem badań opisanych w tej pracy, mają szereg właściwości, stawiających je w grupie materiałów o istotnym znaczeniu dla rozwoju fotowoltaiki [5÷15]. Stanowią pasywną powłokę antyrefleksyjną, która jednocześnie zabezpiecza powierzchnię ogniwa słonecznego przed korozją oraz przed dyfuzją obcych atomów i jonów (np. tlenu). Jednocześnie warstwy takie są źródłem wodoru pasywującego defekty podłoża (na przykład defekty powierzchniowe granic międzyziarnowych polikrystalicznego krzemu). Warstwa a-SiNx:H, stosowana jako powłoka zewnętrzna, zabezpiecza amorficzny krzem przed dyfuzją obcych atomów (np. tlenu) z atmosfery. Jako warstwa wewnętrzna stanowi barierę dla dyfuzji atomów/jonów między podłożem i krzemem (np. w układach scalonych). Celem pracy było otrzymanie w procesie chemicznego osadzania z fazy gazowej, prowadzonym ze wspomaganiem plazmy (PECVD - Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), serii amorficznych warstw a-SiNx:H o różnej zawartości azotu. W literaturze przedmiotu można znaleźć szereg doniesień odnośnie do roli składu chemicznego i budowy warstw jako czynników decydujących o właściwościach użytkowych i potencjalnych zastosowaniach. Znana jest zależność pomiędzy współczynnikiem załamania warstwy[...]

 Strona 1