Wyniki 1-1 spośród 1 dla zapytania: authorDesc:"Katarzyna Włodarczyk-Kowalska"

Supertwarde, nanostrukturalne powłoki TiN/a-Si3N4 na stali Vanadis 23 osadzone nową metodą rozpylania magnetronowego

Czytaj za darmo! »

Poszukiwania nowych warstw ochronnych o zwiększonej odporności na zużycie ścierne i utlenianie podczas obróbki skrawaniem doprowadziły do odkrycia nowej klasy powłok nanokompozytowych nc-MeN/Si3N4 (gdzie Me oznacza metal przejściowy) [1, 2]. Powłoki te mają znacznie większą trwałość w porównaniu z jednofazowymi powłokami dwuskładnikowymi z azotków bądź węglików metali przejściowych (jak TiN bądź TiC), a także w porównaniu z jednofazowymi powłokami trójskładnikowymi o charakterze roztworu stałego (jak np. Ti(C,N)) o charakterystycznej strukturze kolumnowej [3]. Istotną cechą powłok należących do tej nowej klasy była ich supertwardość (powyżej 40 GPa, a niekiedy nawet powyżej 100 GPa) [4]. Powłoki te były wytwarzane za pomocą różnych technik, jak aktywowane plazmą wyładowania jarzeniowe, chemiczne osadzanie ze stanu pary [5], reakcyjne rozpylanie magnetronowe [6], hybrydowe osadzanie za pomocą rozpylania magnetronowego z jednoczesnym odparowywaniem za pomocą łuku katodowego [7], a także hybrydowe filtrowane odparowywanie za pomocą łuku katodowego połączone z rozpylaniem tarczy ukierunkowaną wiązką jonów z działa jonowego typu Kauffmana z dodatkowym bombardowaniem osadzanej powłoki wiązką jonów ze źródła plazmy argonowej wzbudzonej wyładowaniem wysokiej częstotliwości typu indukcyjnego [8]. W 2010 r. w Zakładzie Inżynierii Powłok Instytutu Inżynierii Materiałowej Politechniki Łódzkiej opracowano nową metodę osadzania powłok za pomocą rozpylania magnetronowego sterowanego impulsami ciśnienia gazu [9÷12]. W 2012 r. w UP RP zostały złożone kolejne wnioski o ochronę patentową nowej metody rozpylania magnetronowego sterowanego impulsami ciśnienia gazu [13÷16]. Dotychczas ukazały się tylko dwie prace (oprócz wcześniej wymienionych) na temat nowej metody osadzania [17, 18]. W pracy opisano podstawowe charakterystyki supertwardej, nanostrukturalnej powłoki TiN/α-Si3N4 osadzonej w Zakładzie Inżynierii Powłok PŁ tą nową metodą. STA[...]

 Strona 1