Wyniki 1-6 spośród 6 dla zapytania: authorDesc:"Grzegorz SZAFRAN"

Wpływ podłoża na właściwości dielektryczne plazmowych pokryć węglowych

Czytaj za darmo! »

W procesie nakładania cienkich pokryć węglowych na powierzchnię wybranych włóknin polimerowych zastosowano metodę niskotemperaturowej plazmy wyładowań jarzeniowych. Stwierdzono, że o konduktancji powierzchniowej nakładanej warstwy węglowej decyduje przede wszystkim struktura powierzchni podłoża, która zależy zarówno od rodzaju materiału włókniny, jak i jej gramatury. Abstract. In the process of putting thin layer carbon coatings onto the selected nonwoven fabrics the method of low temperature glow discharges plasma was used. It was found out that the morphologic structure which is depends on type and basis weight of the nonwoven fabric has a considerable influence on the surface resistance of carbon films. (Influence of substratum on dielectric properties of plasma carbon films). Słowa kluczowe: pokrycie plazmowe, węgiel, włóknina polipropylenowa, spektroskopia impedancyjna. Keywords: plasma deposition, carbon, polypropylene fabric, impedance spectroscopy. Wprowadzenie Jednym z rozwiązań materiałowych stosowanych w technice ekranowania pola elektromagnetycznego są cienkowarstwowe pokrycia przewodzące. Zapewniają one mniejszy ciężar i często mniejsze koszty w stosunku do grubych ekranów metalowych. Dodatkowe wymagania, jakie muszą spełniać te pokrycia, to dobra przyczepność do podłoża, jednorodność nakładanej warstwy, trwałość oraz odporność na korozję i utlenianie. Ostatnio coraz większe zastosowanie w technice ekranowania pola elektromagnetycznego znajduje depozycja cienkowarstwowych struktur przy wykorzystaniu metod plazmowych [1, 2]. Nasza propozycja to ekrany w postaci włóknin polimerowych z cienkowarstwowym pokryciem węglowym uzyskiwanym metodą niskotemperaturowej plazmy wyładowań jarzeniowych. O wyborze rodzaju podłoża zadecydowały przede wszystkim specyficzne właściwości mechaniczne (elastyczność, wytrzymałość, lekkość) oraz stosunkowo niska cena włóknin polimerowych. Ich właściwości mechaniczne umożliwiają realizację ek[...]

Bezinwazyjne metody pomiaru pól prędkości płynu. Część II. Walidacja zestawu pomiarowego oraz kodów numerycznych


  Przedstawiono wyniki walidacji zestawu pomiarowego do badania hydrodynamiki przepływu płynu metodą PIV (particle image velocimetry). Zestaw może służyć jako narzędzie do gromadzenia danych eksperymentalnych z instalacji przemysłowych i aparatów procesowych dużej skali. W celu walidacji zestawu przeprowadzono pomiary na dwóch stanowiskach badawczych, dla przepływu laminarnego i burzliwego. Błąd względny dla przepływu laminarnego nie przekraczał 5%, a dla przepływu burzliwego 10%. Na podstawie zgromadzonych danych doświadczalnych przeprowadzono walidację kodów numerycznych Ansys/Fluent (CFD) oraz Palabos (DFD). W obu przypadkach uzyskano bardzo dobrą zgodność wyników doświadczalnych oraz zależności teoretycznej z wynikami symulacji komputerowej. Particle image velocimetry was used for studying the laminar straight-tube flow and turbulent jet flow. The exptl. data were used for validation of Ansys/Fluent and Palabos computational codes. In booth cases, the fit of simulation results to the theor. curve and exptl. data was excellent. Szczegółowo omówiono i porównano bezinwazyjne metody pomiaru pól prędkości płynu w układach jedno- i wielofazowych1). Cyfrowa anemometria obrazowa PIV jest metodą znacznikową wykorzystującą metodę korelacji krzyżowej do cyfrowej analizy obrazów, dzięki której wyznaczane są dwie lub trzy składowe wektora prędkości płynu w płaszczyźnie obrazowania. Metoda ta znajduje zastosowanie w szerokim zakresie prędkości przepływu (od kilku μm/s do setek m/s) w układach jedno-, dwu-, a nawet wielofazowych. Wykorzystywana jest do analizy hydrodynamiki przepływów laminarnych, burzliwych i nieustalonych w czasie. Z racji uniwersalnego charakteru i dużego potencjału oraz relatywnie prostej zasady pomiaru, co wiąże się z niskimi kosztami sprzętu i możliwością pracy w trudnych warunkach, istnieją potencjalne możliwości wykorzystania jej w warunkach przemysłowych jako narzędzia do bezinwazyjnej akwizycji danych[...]

Bezinwazyjne metody pomiaru pól prędkości płynu. Część I. Opis układu pomiarowego


  Omówiono i porównano bezinwazyjne metody wyznaczania lokalnych prędkości płynu w układach jedno- i wielofazowych, ze szczególnym uwzględnieniem wad i zalet oraz zakresu stosowania poszczególnych metod. Celem dokonanego przeglądu było wytypowanie prostej, taniej, uniwersalnej i niezawodnej metody wyznaczania pól prędkości płynu z myślą o jej wykorzystaniu w warunkach przemysłowych do analizy hydrodynamiki przepływu płynu w aparatach procesowych dużej skali, a także jako narzędzia dostarczającego niezbędnych danych do walidacji modeli CFD. W pierwszej części artykułu przybliżono podstawy cyfrowej anemometrii obrazowej (PIV) oraz szczegółowo opisano elementy opracowanego zestawu pomiarowego, jak również możliwości jego aplikacji. A review, with 6 refs., of non-invasive methods for measurements of local fluid velocity in 1 and 2-phase flow. In particular, their flaws, advantages and a range of uses in a large scale apparatus were discussed. Principles of the particle image velocimetry were explained. Podstawowe parametry charakteryzujące przepływ płynu to jego prędkość średnia oraz rozkład prędkości lokalnej. W praktyce przemysłowej najczęściej wyznaczanym parametrem technologicznym jest objętościowe lub masowe natężenie przepływu płynu. Istnieje wiele przyrządów pomiarowych działających on-line i umożliwiających w prosty i niezawodny sposób bezpośrednie określenie natężenia przepływu płynu w układach jedno- i wielofazowych (zwężki, kryzy, turbiny, rotametry, bezinwazyjne mierniki ultradźwiękowe, elektromagnetyczne i radiacyjne). Często, zwłaszcza w pracach badawczych i projektowych, precyzyjna znajomość rozkładów prędkości płynu w aparatach procesowych warunkuje trafne powiększanie lub zmniejszanie skali procesu (mikroaparaty LOC) oraz jego optymalizację. Ze względu na duże koszty, obecnie rezygnuje się z prowadzenia badań laboratoryjnych w dużej skali na rzecz dobrego opomiarowania aparatów przemysłowych w ruchu. Niemal w[...]

Włókniny polipropylenowe z węglowym pokryciem plazmowym w technice ekranowania pola EM

Czytaj za darmo! »

W pracy podjęto próbę wykorzystania metody niskotemperaturowej plazmy wyładowań jarzeniowych do wytwarzania przewodzących pokryć węglowych na włókninach polipropylenowych do zastosowania w technice ekranowania pola elektromagnetycznego. Warstwy uzyskiwano z fazy gazowej (propan - butan). Otrzymanie warstw przewodzących wymaga dalszych badań. Abstract. This work attempted to try to use method of[...]

Właściwości dielektryczne warstw węglowych na włókninie polipropylenowej

Czytaj za darmo! »

W pracy opisano otrzymywanie cienkich warstw węglowych metodą impulsowego rozpylania magnetronowego oraz polimeryzacji plazmowej. Układy zasilano prądem zmiennym jednokierunkowym DC-M o częstotliwości 160 kHz i prądem przemiennym AC-M o częstotliwości 80 kHz. Przedstawiono wyniki badania rezystywności powierzchniowej w zależności od wybranych parametrów procesu rozpylania magnetronowego. Abstract. In the paper thin carbon layers production methods by the pulse magnetron sputtering and plasma spraying were described. The systems were supplied by one direction alternating current with 160 kHz frequency in first method and alternating current with 80 kHz frequency in second one. Results of surface resistivity in dependence on selected parameters of magnetron spraying process were presented. (Dielectric properties of carbon films on the polypropylene nonwoven fabric) Słowa kluczowe: pole elektromagnetyczne, skuteczność ekranowania, rozpylanie magnetronowe, cienkie warstwy. Keywords: electromagnetic field, shielding effectiveness, magnetron sputtering, thin films. Wstęp Węgiel jest pierwiastkiem przejściowym należącym do IV grupy układu okresowego występującym w wielu odmianach alotropowych. Do najważniejszych zalicza się diament, fulereny, nanorurki, włókna węglowe, węgiel czarny, grafit oraz węgiel amorficzny. Wszystkie te odmiany znajdują szerokie zastosowanie w przemyśle. Warstwy węglowe zawierające dużą ilość fazy diamentowej znalazły zastosowanie w medycynie jako bariery oddzielające implanty od żywego organizmu [1, 2, 3]. Układy wielowarstwowe węgiel/polimer o wymiarach porów nieprzenikliwych dla bakterii i wirusów, mogą być używane do produkcji filtrów [4, 5]. Powłoki ekranujące wykonane przy wykorzystaniu techniki plazmowych: polimeryzacji w plazmie lub rozpylania magnetronowego są alternatywą dla ciężkich i sztywnych ekranów PEM wykonanych z metalowych blach i siatek. Właściwości fizyko-chemiczne cienkich warstw umożliwiają [...]

Wpływ parametrów procesu plazmowego nanoszenia pokryć węglowych na włókninę polipropylenową na formy otrzymywanych struktur węglowych

Czytaj za darmo! »

W pracy wykorzystano metodę niskotemperaturowej plazmy wyładowań jarzeniowych do nanoszenia cienkowarstwowych pokryć węglowych na włókninę polipropylenową. Wymagane do zastosowania w technice ekranowania pola elektromagnetycznego właściwości pokrycia węglowego (wysoka przewodność, dobra przyczepność do podłoża i odporność na ścieranie) są konsekwencją udziału faz grafitowej i diamentowej w wytwarzanej warstwie. W tej pracy do identyfikacji faz węglowych zastosowano metodę spektroskopii Ramana. Abstract. In this work the method of low-temperature glow discharge plasma for applying thin film of carbon on the non-woven polypropylene was used. Required for use in the technique of the electromagnetic field shielding properties of carbon coatings (high conductivity, good adhesion to the substrate and resistance to abrasion) are a consequence of the participation of graphite and diamond phases in the produced layer. In this work to identify the carbon phase Raman spectroscopy method was used (Effect of plasma process parameters on the obtained form of carbon structures on the polypropylene non-woven substrate). Słowa kluczowe: węglowe pokrycie plazmowe, włóknina polipropylenowa, spektroskopia Ramana. Keywords: carbon-plasma coating, polypropylene unwoven fabric, Raman spectroscopy Wprowadzenie Jednym z rozwiązań materiałowych wykorzystywanych w technice ekranowania pola elektromagnetycznego są cienkowarstwowe pokrycia przewodzące. Ze stosowanych metod ich wytwarzania, ostatnio coraz większe znaczenie znajduje plazmowa depozycja struktur cienkowarstwowych [1-6]. Duże możliwości metod plazmowych wiążą się zarówno z prostą technologią wytwarzania, jak i unikatowymi właściwościami fizycznymi otrzymywanych warstw, różniącymi się w istotny sposób od właściwości konwencjonalnych materiałów. Są to przede wszystkim: duża wytrzymałość mechaniczna (twardość, odporność na ścieranie, bardzo dobra przyczepność do podłoża) oraz odporność na działanie śro[...]

 Strona 1